Zeiss的Crossbeam 340和Crossbeam 540 Fib-Sem-Microscopes具有较高的生产率，并具有开放式3D纳米工厂。这样的显微镜有助于加快层析成像的速度运行，最多可利用100 na Fib电流，并具有不寻常的斑点曲线，以将微图和纳米反映之间的差距链接起来。
Crossbeam实现了双子座柱的成像和分析性能的组合，以及用于在纳米尺度上用于样品制备和材料处理的下一代FIB的能力。
通过使用开放式和简单的可扩展软件体系结构以及此3D Nano-worksation的模块化平台的想法，可以实现高吞吐量的纳米化和纳米摄影。
强调
在更少的时间内获取更多信息
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使用可选的Atlas 3D包和Gemini Technology分析最多50 K x 40 K像素的大型视野
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通过将低KV SEM性能与纤维电流相结合，纳米化和纳米摄影范围高达100 na
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用户可以使用多探测器采集获得最大的数据，并有可能同时进行铣削和图像
保持完整的流程控制
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易于理解图形用户界面
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从均匀的梁曲线中获利和在长期实验中的最大稳定性
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可以在获取过程中实时更改系统参数，例如探针电流或加速电压，而无需对图像进行任何调整
体验最大的灵活性
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该系统应为原位实验
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打开的应用程序编程接口（API）使用户能够访问每个显微镜参数
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它带有一系列配件和检测器，可轻松升级横梁
双子座列
双子座I副总裁Crossbeam 340
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可以实现与可选的Inlens Duo检测器形成鲜明对比的特殊双子座材料
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从多功能环境中的最大样本灵活性中获利
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可以使用超出或充电样品来执行原位实验
双子座II的Crossbeam 540
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用户可以从特殊材料和与并发ESB成像和Inlens SE的特殊材料和地形对比中受益
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高分辨率成像和快速分析允许在更少的时间内实现其他数据
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双冷凝器系统即使在低压和高电流下也提供高分辨率
激光选项
进行物质消融和制造
可选的激光器可以用于升级交叉板，以从最快的技术中获得利润以进行强烈消融。与高电流的统计，诸如微流体设备之类的功能结构的制造范围从毫米到纳米范围。
用户可以在机械制备导致分层，压缩或涂抹的情况下展开深埋目标区域或修剪软样品。可以通过使用激光选项和横梁在单个良好的系统中执行材料消融和制造。
API
远程应用程序编程界面有助于自定义Zeiss Crossbeam
用户几乎可以访问Crossbeam的打开编程接口启用的每个显微镜参数。
调节电子和离子光学器件，探测器，舞台，真空系统，扫描和图像从自定义程序中获取，从而在系统PC或远程工作站上运行。