EVG770是一个用于步进重复纳米压印光刻的灵活平台，用于有效的主制造或直接在基片上绘制复杂结构。这种方法甚至可以从50毫米× 50毫米的小模具复制模板，覆盖300毫米衬底尺寸的大片区域。
与直接写入或金刚石车削技术一起，分步重复压印经常被用来有效地制造晶圆级光学制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母片。
EVG770的主要特性是精确的校准能力、完整的过程控制和满足广泛设备和应用需求的灵活性。
特性
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可用于晶圆级光学的微透镜的有效主控制作，直至SmartNIL的纳米结构®
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现场成像可在脱模，压印和点胶
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容易实现的各种大师
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现场力控可用于脱模和压印
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可选的自动盒式对盒式处理
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可变抵抗分配模式是可用的
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配有可选的光学楔形误差补偿
技术数据
| ． |
． |
晶圆直径
(底物大小) |
100至300毫米 |
| 决议 |
≤50nm(分辨率取决于模板和工艺) |
| 支持过程 |
软UV-NIL |
| 暴露源 |
大功率LED (i-line) > 100mw /cm² |
| 对齐 |
上侧边显微镜用于实时覆盖对准≤±500 nm
精准度≤±300nm |
第一次打印死到死
位置精度 |
≤1µm |
| 活跃的印记面积 |
高达50 x 50毫米 |
| 自动分离 |
支持 |
| 预处理 |
涂层:液滴分配器(可选) |
来源:电动汽车集团