eVG7200大面积UV纳米压印系统在EVG专有和经过批量验证的Smartnil技术的帮助下，纳米压印光刻（NIL）延伸到Gen 3（550mm×650mm）面板尺寸的基板。
当涉及如显示，生物技术和光子元件等应用时，通过尺寸不能降低的线栅偏振器，通过增加图案区域来提高基板利用效率至关重要。
没有被验证成为促进在巨大区域上制造纳米图案的最经济方式，因为它不受光学系统的限制，可以为最小结构提供最理想的模式保真度。
Smartnil使用非常强大和可控的工具过程，提供优异的保形印记效果降至40 nm *。EVG拥有特殊和经过验证的设备能力，如无与伦比的用户友app亚博体育好性，以及高水平的流程专业知识，因此它通过将纳米压印到整个新水平来满足行业要求。
*解决方案基于流程和模板
特征
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专有的Smartnil.®技术提供巨大的巨大区域的无匹征按照
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适用于所有市售印记材料亚博网站下载
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经过验证的技术，具有卓越的均匀性和复制保真度
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强大可准确的加工
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多次使用聚合物工作戳技术，用于长时间寿命和相当大的成本节约
技术数据
| 。 |
。 |
| 晶片直径（基板尺寸） |
直径200毫米，直至Gen3（550 x 650 mm） |
| 解决 |
40nm - 10μm（取决于模板和过程的分辨率） |
| 支持的过程 |
Smartnil.® |
| 曝光来源 |
高功率窄带（> 400 mW /cm²） |
| 结盟 |
可选光学对准：≤±15μm |
| 自动分离 |
支持的 |
迷你环境和
气候控制 |
可选的 |
| 工作邮票制作 |
支持的 |
来源：ev组