的EVG7300自动UV nanoimprint光刻系统使EVG SmartNIL技术允许的最大规模生产的微型和纳米结构。
EVG7300能够打印纳米结构小40 nm *在一个巨大的区域与低成本的所有权和无比的吞吐量。因此,它支持一系列的生产设备和应用程序,比如光学设备扩充或虚拟现实(AR / VR)耳机,生物医学设备,3 d传感器、纳米光子学、等离子。
此外,EVG SmartNIL EVG7300系统技术已得到增强和模块化。结合EVG的材料专业知识,系统提供了最先进的nanoimprint能力,市场上提供保形印记、快速固化时间与大功率灯和光滑的邮票超然。
*决议是基于流程和模板
特性
- 完全自动化UV-NIL印记和low-force超然
- 可用在high-topography(强硬)表面
- 卷生产40 nm和较小的结构
- 基板的300毫米
- 可以执行一步全区域印过程
- 支持一个广泛范围的结构形状和尺寸,包括3 d
- 200毫米/ 300毫米桥工具车的能力
- 常数模式操作
技术数据
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晶圆直径 (底物大小) |
200毫米/ 300毫米 150毫米/ 200毫米 |
决议 |
≤40 *纳米 |
支持过程 |
SmartNIL® |
暴露源 |
大功率LED(线上)> 400 mW / cm² |
对齐 |
≤±3μm |
邮票分离 |
完全自动化的 |
迷你环境和气候控制 |
可选 |
印章制作工作 |
支持 |
来源:电动汽车集团