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这evg20 ir检查系统提供了一种快速检查技术，专门针对融合键合晶片。通过红外传输的完整晶片的实时图像有助于空隙检测到半径为0.5 mm。红外检查系统是作为独立EVG20工具或EVG组合键合系统中的融合键合工艺的理想匹配。
EVG的异质整合能力中心
EVG®Nilphotonics®能力中心：灵活的合作模型
EVG®101：单滤器抵抗处理系统
evg®105烘焙模块：用于软曝光烘烤过程
EVG®120：紧凑，具有成本效益的抵抗处理系统
EVG®150：完全自动的抵抗处理系统
EVG®320D2W：自动化模具制备和激活系统
evg®40nt：用于粘合和光刻学的高准确度量
EVG®50：用于粘合堆栈和单晶片的自动计量系统
EVG®510他半自动化热压花系统
EVG®520他半自动化热压花系统
EVG®610BA键对准系统，用于晶片到保用仪的对齐最多200毫米
evg®610紫外线：纳米板光刻系统
EVG®620BA：用于晶圆到磁力对齐的自动债券对齐系统
EVG®620nt：最先进的面具对准技术
EVG®6200BA：用于晶圆到磁力对齐的自动债券对齐系统
evg®6200nt面膜对准器：最先进的面膜对准技术
evg®720：自动化Smartnil®UV纳米印刷系统
evg®7200：自动化Smartnil®UV纳米印刷系统
EVG®7300：自动紫外线纳米印刷溶液高达300毫米
evg®770：零用纳米印刷印刷系统
EVG7200：大区域紫外线纳米印刷系统
Gemini®FB：自动集体模具到磁力粘结系统
通过半自动化热压花系统帮助半导体制造技术
Hercules®：用于盒式磁带处理的集成光刻轨道系统
通过用于微型和纳米电子的自动抵抗处理系统提高质量
IQAligner®NT：技术先进的自动面罩对准系统
IQAligner®：非接触式接近光刻平台
LITHOSCALE®：高度通用的无口罩曝光光刻平台
SmartView®NT：通用对齐的自动债券对齐系统
用EVG®610支持各种标准光刻过程