LITHOSCALE®:高度通用的无掩模的曝光光刻平台

配备电动汽车集团的大中型企业™无掩模的接触技术,LITHOSCALE系统地址遗留瓶颈通过集成强大的数字处理,允许实时数据传输和即时曝光,吞吐量可伸缩性和高结构解析。

mask-free方法LITHOSCALE系统防止mask-related耗材,而曝光系统的可调固态激光源开发为长寿命稳定和高冗余提供特殊的自动校准功能,减少维护。

强大的在线数字处理允许即时接触衬底从设计文件,从而防止小时所需的转换时间数字掩模的每一个布局。

LITHOSCALE系统使得高分辨率(< 2µm L / S),动态接触文明程度可寻址的衬底表面,它允许灵巧consumable-free处理,因此低拥有成本(首席运营官)。

LITHOSCALE系统还集成了整片,top-and-backside对齐使用专门的目标红外和可见的能力和专有卡盘设计容纳晶片尺寸300毫米。

LITHOSCALE系统甚至包括动态对齐与自动对焦模式来适应基材和表面变化。潜力精细调节focus-level位置保持边墙陡度,也保证了所需的3 d轮廓的抵制,同时避免边缘超过和基础。

自动自适应聚焦和大型工作距离保证模式在接触表面均匀性。系统还提供了个性化的死亡处理能力,而动态校准和快速细致的定位让优秀的可伸缩性广泛的底物的形状和大小。

特性

  • 分辨能力小于2µm L / S
  • 衬底晶片尺寸300毫米/ 12
  • 大中型企业的技术,配备高端光学衍射极限特性
  • 定期跟踪和auto-calibrated固态光源确保高冗余和long-life-time稳定
  • 曝光的375 nm和405 nm波长;用户可以定义随着宽带,单身,或任何类型的波长混合物
  • 复杂的对齐模式支持底边和船壳IR和VIS对齐功能
  • 会,高精度对准阶段集成了先进的机电一体化和完整的稳定的系统校准传感器
  • 自适应自动对焦控制(AF)小于100µm
  • 景深控制(景深)小于24µm
  • 先进的软件功能包括:
    • 复杂的畸变补偿
    • 动态的文明程度注释
    • 布局转换函数
    • Mask-file转移和配方执行通过主机/灵活的对于每一个晶片
    • 替代文件格式支持:绿洲,ODB + +,嘉宝
  • Consumables-free技术
  • 可伸缩的解决方案提供研发和大批量生产(HVM)需求在一个系统在不增加足迹
  • 非接触式楔自动补偿序列

技术数据

最小特性
大小模式
CD:≤2µm
对齐方式 板面对齐:≤±0 5µm
底端对齐:≤±1,0µm
红外定位:≤±1,0µm /衬底材料不同
接触范围
(单、宽带
任何形式的混合物)
375 + 405海里
晶圆直径
(底物大小)
300毫米
楔形补偿 非接触式
焦点 景深(景深):24µm
自动对焦(AF): 100µm
动态对齐
模式(坝)
全局比对
多点校准
先进的
LITHOSCALE
特性
数字掩模文件传输和配方执行通过主机/灵活/每个晶片
动态注释功能
自动对焦功能
先进的畸变函数
布局转换函数
Gerber文件格式的支持
ODB + +文件格式的支持
绿洲文件格式的支持
工业自动化
特性
盒式磁带
FOUP
秒/宝石
系统控制 操作系统:Windows
文件共享和备份解决方案/无限。配方和参数
灵活的流程定义
简单拖放食谱编程
并行处理多个作业
多语言用户界面和支持:CN、德、FR,摩根大通,KR
实时远程访问、诊断和故障排除
智能过程控制和
数据分析功能,
框架的软件平台
综合分析过程和机器控制特性
并行任务/排队任务处理功能
app亚博体育设备和过程性能跟踪特性
智能处理功能
事件和警报分析
智能维护管理和跟踪


来源:电动汽车集团

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