的EVG®EVG集团的610掩模对准系统支持广泛的标准光刻工艺，如软、硬、真空和接近曝光模式，包括背面对准选项。此外，该系统还提供了额外的功能，如键合对准和纳米压印光刻(NIL)。
的EVG®610能够快速处理和重新加工不同的用户需求，过渡时间不到几分钟。它的现代多用户概念可以适应从初学者到专家，从而使它完美的大学和研发应用。
特性
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顶部侧和底部侧对齐能力可用
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晶片或衬底尺寸从片到200毫米/8″
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提供了逐步的过程指导
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自动楔补偿序列是可用的
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配有高精度对准台
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减少系统占地面积和设施需求
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电动和配方控制曝光间隙
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支持新的UV-LED技术
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提供远程技术支持
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可用敏捷处理和转换重新工具
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多用户概念(无限制的用户帐户和食谱，不同的用户界面语言，以及可分配的访问权限)
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台面或自动版可提供抗振动花岗岩台面
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附加功能:
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Nanoimprint光刻(零)
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红外对齐
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债券对齐
技术数据
| ． |
． |
| 对齐方式 |
顶部侧边对齐:≤±0,5µm
底侧对准:≤±2.0µm
IR取向:≤±2,0µm /基底材料视情况而定
键合方向:≤±2,0µm
零对齐:≤±2,0µm |
| 暴露源 |
汞光源/ UV LED光源 |
| 楔形补偿 |
全自动- SW控制 |
| 晶圆直径(基片尺寸) |
可达100 / 150 / 200毫米 |
| 接触设置 |
真空触点/硬触点/软触点/接近模式 |
| 曝光选项 |
间隔暴露/泛洪暴露/扇形暴露 |
| 高级对齐功能 |
手动校准/现场校准验证
人工杂交校正
巨大的差距对齐 |
| 系统控制 |
操作系统:Windows
文件共享和备份解决方案/无限。配方和参数
多语言用户界面和支持:CN, DE, FR, IT, JP, KR
实时远程访问，诊断和故障排除 |
| Nanoimprint光刻技术 |
UV-NIL |
来源:电动汽车集团