丹顿真空的探索者薄膜沉积平台

Explorer®在薄膜行业提供了最广泛的配置和沉积模式:电子束蒸发,电阻蒸发,溅射,离子镀和离子辅助沉积。

能够溅射电介质,磁性和复合材料。亚博网站下载柔性阴极,调整以冲击角度也可用。

强大的控制系统可采用半手动模式或全自动模式,一推自动减少系统停机时间。

Process Pro升级提供

  • 所有丹顿真空产品的一致性控制
  • 标准软件使其易于支持,并避免了昂贵的定制费用
  • 源代码为您的程序,以便您可以自定义您的程序。
  • 网络功能使发现成为网络上的一个节点,支持实时、远程支持和升级。

大负载锁可容纳基底高达10”

  • 多个泵配置
  • 各种扩散,低温,和涡轮泵配置可适合您的预算和工艺。后部或底部安装泵提供方便的访问服务,基于您的工作空间的需要

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