HELIOS工业范围是一个高吞值对象涂层系统,帮助应用低成本原子层沉积涂层从微米到米段的组件
HELIOS涂层系统将原子级控制、胶片质量和ALD适配性能带入商业制造,为新可能性铺路并允许创新应用,如保护功能表面工程对象
密钥特征
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高吞量增长60至150分/分
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沉积室量度达1x1m
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可保持500-m间隔
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耗品达90%效率
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零废物消除系统
应用
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OLED显示器和传感器
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电子设备
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医疗装置和传感器
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ICs、PCB、CABs和模块
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太阳能显示技术
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光学涂层
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封装腐蚀、环境电压和高压隔热
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照片催化涂层
福格南诺提供全球HELIOS系统以方便新式复杂技术HELIOS涂层系统使用Forge Nano专用团队Forge Nano提供世界级服务并实现最优级维护
基本规范配置
性能显示
HELIOS涂层系统设计高效处理小脚印并大幅降低工厂耗电量app亚博体育专利自带减量确保少维护并超过遗留PVD和CVD设备全时记录
HELIOS涂层系统简单、模块化和灵活化,以低成本自有提供非对称生产率和性能低压力、无针孔和异常相容ALD电影首次提供二分周期时间和高生产率满足工业应用需求
Forge Nano专利SMFD-ALDTM提供生产率和性能而不影响电影质量
能力性
可负担ALD电影提供,如ZnO和ZrO2AL2O级3区域局 区域局 区域局2SiO2BNTNTALON3N级5等类亚博网站下载允许用纳米复合和纳米化能力复制无缺陷胶片工程并附超过1000PSI数个子串,如铜、金、锡、聚米化物、FR4、各种焊模掩模材料、粘合物、陶瓷、聚氨酯等
设计
HELIOS涂层系统整合Forge Nano单秒响应ALD多维唯一能改变周期组成而又不影响吞吐量的ALD多维
Forge Nano自2005年以来在田里证明的阀门设置安全性、速度性、寿命和可靠性记录Forge Nano的ALD阀门是市场唯一可买到的免溢出双装UHP阀门
配置
HELIOS涂层系统可搭配数大形组合件集和模块化工具并装通用加载器机房典型尺寸介于1.5至80升或上至1x1m面板(定制尺寸也可用)。
化学类
有序有效蒸发自专有和新创源可快速低成本沉降需要低挥发性先质的胶片更多专有和新点播源用于安全管理并交付极反应器或短寿命响应器