Forge Nano的APOLLO Wafer Coating System提供了完全自动化的盒式到盒式ALD工艺，拥有最低的成本和高的吞吐量性能。
APOLLO在ALD生产效率、成本和性能方面都是最好的，同时为效率和最小化环境影响设定了全新的标准。由于其“零浪费”处理，阿波罗降低了工厂的能源消耗，需要更小的洁净室地板的足迹。
关键特性
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紧凑footprint-1米2每室
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超快沉积120-300 Å/分钟
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下午二时五十分维修
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完全连锁和故障安全
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泵寿命更长，无浪费
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晶片和批次之间的均匀性在1%以内
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前体利用率高达90%
应用
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医疗设备和传感器
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消除密封包装
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光学传感器
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适用于环境、腐蚀和高压绝缘
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CoBs, pcb，模块和集成电路
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电子设备
锻造纳米交付阿波罗在世界各地促进新一代先进技术。阿波罗计划包括由美国科学家和工程师组成的Forge Nano团队提供的世界级的维护和一流的服务。
基本规格和配置
性能
阿波罗以最高的生产能力、优良的化学利用和最低的拥有成本，实现了ALD生产效率的新水平。来自Forge Nano的SMFD-ALD™专利工艺保证了薄膜和纳米层积物的质量。
能力
APOLLO系统可使Al等薄膜的ALD价格低廉2O3.高频振荡器,2、ZnAlO ZrO2，氧化锌，钽2O5, TiO2，SiO2,注3.N5，HfSiO，BN，<300°C的锡、氮化镓等。该工艺甚至涵盖了复杂的图形化晶片，如面积增加50倍以上的先进一代DRAM器件晶片。
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复合三元和四元合金薄膜
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厚膜沉积(>5 μm)
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任何拓扑上的100%保形薄膜
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纳米层压板与可再生原子层控制的无缝结合
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低温处理(80°C以下)
阿波罗系统可通过纳米层压板和复合材料功能实现平滑和可复制的薄膜工程。薄膜附着力超过1000磅/平方英寸，适用于多种不同基材，如铜、锡、聚酰亚胺、金、陶瓷、FR4、粘合剂、不同的阻焊材料、聚氨酯等。亚博网站下载
设计
APOLLO采用了来自Forge Nano的毫秒响应ALD歧管，该歧管结合了10个其专利的快速气动阀(FPV)，提供了超过1亿次的复合材料和纳米层压板ALD薄膜的无故障循环。这种ALD歧管是唯一一个有能力切换组成，每个周期没有任何产量惩罚。
Forge Nano的阀门自2005年以来经过现场验证，在高达220°C的高温下工作，在可靠性、速度、安全性和使用寿命方面都创下了记录。来自Forge Nano的ALD阀门是市场上唯一的双密封、无泄漏超高压阀门。
配置
APOLLO系统可以容纳75到300毫米的晶圆，采用盒式到盒式或单晶圆装载机配置。
化学
通过新颖、专有的来源，规范、有效的蒸汽输送，可以快速、低成本地沉积需要低挥发性前驱体的薄膜。更新颖和专有的按需源被用于安全监管和交付其他过度反应或寿命较短的反应物。