来自Forge Nano的THEIA集成了经过生产验证的系统组件和公司的商业解决方案APOLLO的设计，在一个研发包中提供了无与伦比的灵活性、性能、安全性和可靠性。
THEIA可以在现场升级，因此可以满足工程师和科学家不断变化的要求。THEIA允许从研发到生产的平稳过渡。利用THEIA生产的配方可以输入到阿波罗，从而实现简单而直接的商业化规模生产。
关键特性
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超快速沉积120-300 Å/分钟
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可伸缩性和field-upgradable
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批次和跨晶圆之间的一致性为1%
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专有的阀门，速度小于1毫秒，循环寿命为1亿
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每隔50点进行一次维护
应用程序
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ALD前体的发展
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环境壁垒涂料
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附着力和界面层
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腐蚀保护
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生产耐磨涂料
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区域选择性化学发展
Forge Nano在全球范围内提供THEIA，为新一代先进技术提供动力。THEIA包括一流的维护和世界级的服务，来自该公司在美国的科学家和工程师的专门团队。
基本规格与配置
性能
THEIA提供了由Forge Nano专利SMFD-ALD™提供动力的超快速沉积，在一个具有成本效益的研发预算系统中。亚秒级的ALD循环时间使得需要厚膜的应用能够快速有效地探索。
该系统覆盖了复杂的图形基板，如先进一代DRAM设备晶片、传感器、薄膜、电子倍率等，宽高比可达1000。
能力
THEIA最适合勘探新开发的ALD前体。在初始阶段，ALD前体通常非常昂贵(1,000美元/克是非常常见的)，而且只能少量供应。
客户还受益于几个成熟的高生产率ALD工艺，包括Ta2O5高频振荡器,2、SiO2, ZrO2,注3.N5， <300°C的TiN, GaN, BN和更多，锻造纳米交付作为交钥匙过程。
配置
THEIA有三种晶圆尺寸配置(从75毫米到300毫米)和第四种配置，用于一般部件和/或面板，尺寸为300 x 300 x 10毫米。通过灵活的现场升级选项，可以对现场的所有配置进行改造。
设计
THEIA以Forge Nano的毫秒响应ALD歧管为特点，该歧管结合了10个其专利的快速气动阀门(FPV)，可提供超过1亿个无故障循环的纳米层压和复合ALD薄膜。
这种ALD歧管是唯一一个可以改变组成每个周期，而没有任何吞吐量罚款。Forge Nano的阀门自2005年以来经过了现场验证，在使用寿命、速度、安全性和可靠性方面都创下了纪录，同时还能在高达220°C的高温下工作。来自Forge Nano的ALD阀门是市场上唯一的无泄漏、双含超高压阀门。
可选特性
原位QCM以毫秒时间分辨率监测大于5%单层的ALD过程。它用于ALD过程的机理研究、优化、前驱体的稳定性和动力学。此外，它是非常有用的表面清洗过程，脱氯，致密，前驱体升华，还原，氮化，退火，氧化，硅化物形成和更多。