等离子体去污染替代气体配置:真空®E50

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evtron的E50除污染器是高性能、紧凑而流线型的等离子体清洁剂，设计用于离子和电子束仪器，如fib、tem和sem。

该vactron E50等离子体自由基源(PRS)具有紧凑的设计，使其成为负载锁，SEM/FIB室，或样品制备室的多用途解决方案。它提供了快速，有效，强大的清洗范围广泛的压力，允许无人工，高质量的图片和提高效率的样品分析。

在真空E50可选气体pr中有两种配置:用于一般实验室条件的精密过滤器(0.5 μm孔径)模型和超高纯度过滤器(3纳米孔径)模型，以满足半导体部门SEMI F38-0699指令的严格要求。

在线过滤器避免进入颗粒，产生的气体供给管道，进入等离子流。已验证的替代气体包括CDA、O₂基于“增大化现实”技术/ O₂, Ar /小时₂N_2，和H₂/ N₂．出于安全原因，使用100% H₂不建议。

E50备用气体系统特点

节能射频空心阴极等离子体(RFHC)
紫外线和等离子余辉双重作用清洗
RF功率峰值为75 W，连续可达50 W
有线触摸板编程或蓝牙Android平板电脑
可编程电源，配方，循环次数，和清洁时间
高真空度的流行音乐的点火
兼容TMP和先进的排气是不需要的
外部联锁连接(选配)
广泛的压力操作范围- 0.3 Pa/2 mTorr到80 Pa/600 mTorr
没有损坏敏感元件-没有溅射腐蚀
等离子体气体包括CDA,呵,2基于“增大化现实”技术/ O2, Ar /小时2N2，和H2/ N2
可实现快速清洗，比上一代vactron型号快100倍以上
PRS可以设置在负载锁定或扫描电镜室
等离子点火不需要改变火柴或气体流量
按钮清洗操作
符合RoHS, NRTL, TUV, CE, SEMI等标准

等离子体去污染替代气体配置:真空®E50

图片来源:抽空E50 (XEI Scientific)

配备了无线平板电脑编程功能的vacutron E50 Plasma de - pollution是为了消除高真空室(如FIBs和sem)的碳氢化合物污染而开发的。紧凑的设计的vactron E50适合大多数的FIB和SEM模型和负载锁。E50使用空气和交替气体等离子体与紫外线余辉快速减少碳氢化合物污染。