Q150V PLUS：用于高真空应用的涂层

来自仲裁技术的Q150V PLUS已为高真空应用设计，具有最终的真空测量1 x 10^-6mbar。当与广泛的Penning / Pirani测量仪结合使用时，Q150V Plus允许具有超细晶粒尺寸的氧化金属，这是高分辨率成像的理想选择。

较低的背景压力消除了来自腔室的氮气，氧气和水蒸气，防止在溅射过程中溅射时可能导致涂层中的缺陷或杂质的化学反应。同样，较低的散射使得能够显影具有高密度的高纯度，非晶碳膜。

图像信用：仲裁技术。

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Q150V Plus提供Q150T Plus的所有优点，但具有更精细的粒度和更薄的涂层，用于超高分辨率应用（超过200,000倍倍率）。

视频信用：仲裁技术。

主要特点

• 1 x 10的终极真空-6曼巴里
• 新的多色LED可视状态指示灯
• 新触摸和刷卡电容屏
• 16 GB闪存可以存储超过1000个食谱
• 可以在单个计算机上配置多个用户配置文件
• 新软件根据最近使用基于每个用户对食谱进行排序

Q150V Plus有三种配置提供

Q150V S加-具有超细粒度的氧化金属的自动溅射涂布机。可用的溅射靶包括铬，铱和所有贵金属

Q150V E Plus.- 用于TEM应用的自动碳涂布机（杆/绳索）。用于碳涂层TEM网格。

Q150V es加- 一种能够溅射和碳涂层的组合系统。沉积头插入件可以在几秒钟内换流。提供金属蒸发/光圈清洁选项。