等离子体原子层沉积工艺和热ALD - 柔性

来自牛津仪器的柔性系统在单个ALD系统内提供远程等离子体原子层沉积(ALD)工艺和热ALD。这为设计纳米级结构和设备提供了全新的灵活性和能力。

  • 单个柔性工具中的远程等离子体和热ALD
  • 远程等离子体可确保损坏很低
  • 等离子体ALD促进的低温工艺
  • 选择前体和材料的最终灵活性亚博网站下载
  • 可以耦合以进行基板的真空转移
  • 盒式磁带处理促进了生产的吞吐量
  • 可以处理最多200毫米的晶片
  • 配方驱动的软件界面可确保可控的可重复流程

概述

ALD产品系列包括各种工具,以满足企业研发,学术界和小规模生产的不同工具。

柔性

图片信用:牛津仪器等离子技术

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