Trion Technologies的Sirus T2反应离子蚀刻器（RIE）是一种基本的等离子体蚀刻系统，旨在蚀刻介质和其他需要基于氟化学的胶片。小的足迹和健壮的设计使其非常适合实验室环境。
申请
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- 研究和发展
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Sirus T2反应离子蚀刻器的标准特征
- Sirus T2反应堆，带有200mm底部电极
- 系统控制器（包括基于Pentium™的计算机和触摸屏接口）
- 两个质量流控制器
- 使用13.56 MHz的自动调整600瓦RF发电机
- 紧急关闭系统
- 自动压力控制套件（带电容压力计的蝴蝶阀用于压力测量）
- 12个月有限保修