Phantom III RIE(反应离子蚀刻系统)旨在为研究和故障分析实验室提供最先进的等离子蚀刻能力，使用单片晶片、模具或使用氟和氧基化学物质的部件。该系统具有紧凑的模块化设计，建立在节省空间的平台上。
应用程序
已开发出各向同性或各向异性刻蚀二氧化硅、氮化硅和其他需要氟化或任何无毒、无腐蚀性化学物质的材料的工艺。亚博网站下载幻影III在购买之前和之后都有完整的流程支持。
工具的特性
- 反应堆
阴极和阳极都是由单个块铝加工而成。经过关键检查后，对其进行硬阳极氧化，以防止工艺化学反应。底部电极可以在200mm或300mm尺寸，并可以处理单个晶圆片，模具或部件(2“- 300mm)。工艺气体通过环形环或莲蓬头歧管进入腔室。
- 自动匹配网络
独特设计的网络作为底部电极组件的一个组成部分，以确保准确的调谐，低传输损耗和几乎没有射频辐射以外的网络本身。该网络使用一个相位大小传感器和放大器，以提供快速精确的实时反馈。
- 射频发生器
该系统配有一个600瓦，13.56 MHz，固态射频发生器。
- 触摸屏操作界面
带有触摸屏界面的彩色平板显示器随时为操作人员提供完整的工艺信息。软件界面指导操作人员通过每个序列的逻辑方式，并给予指尖控制所有工艺参数。
- 电脑处理控制器
PC过程控制器提供简单可靠的系统控制。图形软件包以框图的形式创建程序。工艺配方存储在硬盘驱动器或可存储在USB闪存驱动器，允许每个操作员维护个人配方。
- 交流配电模块
交流配电模块自动将预定义的功率分配给内部各部件。当紧急电源关闭按钮跳闸时，射频电源关闭，所有与气体输送有关的阀门自动关闭，机器电源下降到安全待机模式。这个系统包括独立的电源控制的主要交流和外围设备。
- 自动压力控制
每个Trion系统包括一个由过程控制器直接操作的蝶阀压力控制阀。这提供了独立的压力控制，独立于所有其他工艺参数。
- 天然气输送系统
采用最先进的技术，以确保最大的完整性和纯度。每个反应室容纳两个质量流量控制器和所有管道采用表面安装，c -密封技术或轨道焊接VCR配件。
- 安全
系统符合SEMI S2-93安全要求。该系统符合CE CE指令98/37/EC，低电压指令73/23/EEC和电磁兼容指令89/336/EEC的CE标记要求。可根据要求提供第三方安全审查。