的WafIR™来自Harrick Scientific Products的是一个水平ATR附件，设计用于分析单层和其他薄涂层，涂层在晶圆的一侧，两侧都经过抛光。它包括一个入射角为45°的硅晶体来耦合入射和射出的光。
WafIR配备了一个压力施加器，包括压力垫，即使在被测区域外部的接触面积最小的情况下也能提供最佳接触。滑脱离合器集成到压力施敷器限制施加在样品上的总力。为了实现可重复性，压力涂抹器被设计为与扭矩扳手兼容。
WafIR完全受限，以确保快速清洗，并与大多数FTIR光谱仪兼容。
特性
- 多重反射确保高灵敏度
- 无阻碍的水平取样表面容纳了直径为52 × 10 mm至203 mm(8″)的晶圆
- 固定入射角45°
- 该设备可app亚博体育以很容易地对准和使用
- 非接触式抽样技术;与耦合晶体的接触发生在测量区域的外部
- 可替代硅耦合晶体
- 为厚度为0.770 mm的晶圆片提供33次反射
- 独有的压力涂抹器，包括衬垫，确保与样品接触最小
- 综合滑脱离合器限制了施加在试样上的总力
- PermaPurgeTM能够快速交换样品而不中断清洗
包括