单层高强度冶金石墨烯-HSMG®

在化石过程中,发生了吸收和掺入碳基质晶体结构的吸收和掺入。与固态基质相比,液态铜基质的最大碳含量要低得多,因此,在熔点上方加热后,金属基质被碳原子过饱和。HSMG®生长取决于液态金属基质的受控碳沉淀。

生长进展始于金属底物上单六角片的成核。在成核过程中,液体基质可以实现晶粒旋转和重排,从而带来了更大的晶粒尺寸和增强的石墨烯特性。该过程得到完全控制,并可以用确定数量的层制造石墨烯片。

稳定的负热系数

HSMG®样品在循环测试期间表现出抗相距抗性关系。

HSMG®电阻的温度系数:-1.7Å10-3÷-4·10-4[1/κ]

有效的气体吸收

HSMG®展示了可逆气体吸附(包括从气体混合物中的选择性氢吸附)的脆弱性,该漏气允许使用HSMG®作为未来气体传感器的功能材料。

单层高强度冶金石墨烯-HSMG®

HSMG®增长过程-1
HSMG®增长过程-2
HSMG®增长过程-3
HSMG®增长过程-4
Nomarski干扰对比度图像 - 成核期间的谷物排列
SEM-生长过程中石墨烯晶粒尺寸的评估
TEM-图片1
TEM-图片2
TEM-图片3
TEM-图片4
HSMG®悬挂在TEM网格上
拉曼光谱法

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