波长分散XRF光谱仪 - ZSX Primus 400

Rigaku独特的ZSX Primus 400顺序波长色散X射线荧光（WDXRF）光谱仪专门设计成处理非常大的和/或重质样本，可测量直径为400 mm，厚度为50mm，质量为30千克。因此，该系统是用于分析溅射靶，磁盘和多层膜计量的理想解决方案，或用于大型样品的元素分析。

XRF具有定制样品适配器系统

该WDXRF光谱仪能够通过使用所需的可选适配器插入物来适应各种尺寸和形状的特定样品类型的能力。此外，该仪器还能够适应不同的分析要求。具有可变测量点，其直径范围为30mm至0.5mm，5步自动选择和具有多点测量的映射能力，以检查样品均匀性，使得该WDXRF光谱仪成为一个独特的灵活仪器可以大大简化您的质量控制过程。

XRF可提供摄像头和特殊照明

可选的实时摄像机允许在软件中查看分析区域，从而为运营商提供完全确定性并控制正在测量和分析的样本。

传统的WDXRF分析能力

传统仪器的相同分析能力保留在该“大型样品”变体中。这些能力包括使用WDXRF光谱从铍（Be）至铀（U）的元素的高分辨率和精确分析，以及作为在组合物尺寸范围内的固体，液体，粉末和甚至薄膜的样品。到几十％，以及从亚埃到mm的宽度宽的厚度范围。

衍射峰值干扰抑制也可用于实现单晶基板的最佳结果。Rigaku ZSX Primus 400波长色散X射线荧光（WD-XRF）光谱仪符合行业标准半和CE。

ZSX Primus 400应用程序

• 溅射靶组合物
• 隔离膜：SIO₂，bpsg，psg，assg，si₃nə，siof，sion等
• 高k和铁介电薄膜：PZT，BST，SBT，Ta 2 O 3，HFSIOx
• 金属薄膜：Al-Cu-Si，W，TiW，Co，锡，棕褐色，Ta-Al，IR，Pt，Ru，Au，Ni等。
• 电极薄膜：掺杂的聚 - Si（掺杂剂：B，N，O，P，AS），无定形-SI，WSIX，PT等。
• 其他掺杂的薄膜（AS，P），被困惰性气体（NE，AR，KR等），C（DLC）
• 铁电薄膜，FRAM，MRAM，GMR，TMR;PCM，GST，Gete
• 焊料凹凸成分：障碍，窥探妇女
• MEMS：ZnO，AlN，PZT的厚度和组成
• SAW器件过程：ALN，ZnO，ZNS，SIO的厚度和组成₂（压电薄膜）;Al，Alcu，Alsc，Alti（电极薄膜）

ZSX Primus 400配件

• 采样相机，具有特殊照明，以便易于查看分析点
• 衍射干扰抑制为单晶基板提供准确的结果
• 基本参数软件分析薄膜

产品特色

• 大型样品分析
  • 直径〜400毫米
  • 〜50毫米的厚度
  • 大约30千克质量）
• 样品适配器系统
  • 适应各种样品尺寸
• 测量点
  • 直径范围为30毫米 - 0.5毫米
  • 5步自动选择
• 映射能力提供多点测量
• 可选的示例视图相机
• 一般用途
  • 分析元素范围从be - u
  • 元素范围：ppm至％
  • 厚度范围：亚埃至mm
• 可选的衍射干扰抑制
  • 单晶基板的准确结果
• 遵守行业标准
  • 半，CE标记
• 小足迹
  • 以前型号的50％足迹

ZSX Primus 400规格

安装要求

波长分散XRF光谱仪 - ZSX Primus 400

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