Velion:Fib-Sem Fib真正出现的位置

聚焦离子束(FIB)技术为制造多种材料提供了非常多功能的功能。亚博网站下载因此,Velion是一个用于纳米制造的FIB-SEM系统,其中FIB是主要技术。因此,该仪器高度优化用于制造高分辨率,三维纳米结构,例如镜头,等离子设备,局部植入,超材料,纳米流体学等。亚博网站下载

在量身定制的Fe-Sem列和Raith的高精度激光干涉仪阶段的支持下,Velion允许在四种不同的操作模式中使用非常通用的用途。现在,使用单个工具可以使用FIB纳米制作,样品制备,过程控制和电子束光刻。

独特的架构使天鹅绒旨在满足最苛刻的纳米制作要求的FIB优先系统。它提供了多种直接FIB处理方法,具有无与伦比的稳定性,可重复性,自动化和高电图仪器的高分辨率。RAITH纳米制造

图片来源:雷思

FIB方法可以通过使用直接图案(铣削,蚀刻,沉积)或硬掩蔽来使纳米化更有效,并基于无膜离子植入或表面功能化启用新过程。Velion是回答R&D各个区域中基于离子束基的纳米制作的发展兴趣的发展的结果。其独特的纳米纤维三离子柱具有出色的放置精度,高分辨率,长期稳定性和记录低光束尾巴。量身定制的FE-SEM色谱柱以及其他选项,例如气体喷射系统,纳米探针和EDX支持FIB过程,并主要扩大应用范围。

Velion产品详细信息

主要用途

  • 直接和3D FIB技术
  • 无气纤维纳米制造
  • 纳米工程平台
  • 样品制备
  • SEM检查和光刻

阶段

  • 4英寸全程旅行
  • 大Z旅行
  • 旋转和倾斜样品支架
  • 其他倾斜设置

列技术

  • Nanofib三
  • 电离
  • 离子列35 kV GA(AU,SI,GE)
  • Fe-Sem列30 kV

独特的写作模式

  • traxx
  • SECENIXX

聚焦离子光束益处

  • 真正的3D直接图案,也在地形样本上
  • 简化流程和流程开发最快的结果
  • 用于挑战或新材料的多功能FIB方法亚博网站下载

高级纤维纳米制动

  • 保证的低于10 nm的FIB纳米制作和出色的梁斑特性
  • 甘露以外的多种离子物种(离子电气技术)
  • 长时间和区域的光刻级稳定性和准确性
  • 激光干涉仪阶段,最高精度和真实的场缝制或连续图案

SEM等

  • SEM检查原位过程控制
  • 在TEM样品制备过程中实现现场成像
  • 燃气辅助过程,操纵和探测

扩展多功能性的可配置设置

Velion在真空室上有许多通用端口,支持可配置的设置,该设置能够在将来升级。除其他功能外,FIB-SEM系统还可以配备一系列多行和单线气体喷射系统。从相反方向包含多个GIS,可以进行气体诱导的过程,例如纳米对象的接线和X截面分析。燃气辅助蚀刻可提供更好的选择性,提高的去除率和更少的重新沉积。

另一个新功能是纳米福利计作为附加组件,它允许3D工艺控制和侧向辅助电子成像信息。3D表面成像溶液纳米素有助于在几分钟内原位蚀刻,沉积和铣削过程。其他选项包括各种光学相机,样品自动高度传​​感,等离子样品清洁剂,EDX等。Velion设置的CAD视图,包括SEM,SE和EDX检测器,5通道和两个单线GIS,光学宏观镜以及两个Nano操纵器

Velion设置的CAD视图,包括SEM,SE和EDX检测器,5通道和两个单线GIS,光学宏观镜以及两个纳米操纵器。图片来源:雷思

离子电气技术 - 镀仑铅纳米制造

Nanofib三技术用于连续递送硅,金或其他纳米束直径的离子。流动增强的合金离子源和低渗透离子光学元件可以轻松从单个源之间切换许多离子物种,同时保持纳米菲伯三列的高分辨率和稳定性。

离子电气提供了各种物种,从充满双电荷的光离子到重离子和簇 - 所有这些都具有出色的处理,并实现了不同的尚未探索的纳米化方法。涉及特定功能化,低污染,更高分辨率或表面敏感铣削的处理将为下一代研究打开新的突破。

Velion- Fib -Sem Fib真正出现的位置

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Velion:Fib-Sem Fib真正出现的位置

1毫米长的流体通道通过用缝制制造
特殊抗反射光栅的三维形状通过X截面分析揭示(图片来源:Bilkent University)
膜上测试阵列的SEM控制
线宽度和剂量的EBL测试模式
三维吸收器结构的直接纤维铣削(图片来源:智格大学)
波浪指南的一部分和电阻的光子晶体图案
纤维切割低于10 nm的功能在挑战材料等诸如多晶金(图片来源:斯图加特大学)亚博网站下载
Fib铣削创建的等离子特征的高分辨率成像(图片来源:Stuttgart大学)
TEM Lamella通过现场抬起来准备(图片来源:NMI Reutlingen)
写入现场缝线可以直接铣削长波导,仅在10 nm等级上取消偏移(图片来源:北京大学)

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