picosun®R-200标准ALD系统旨在处理诸如MEMS设备，IC组件，显示器，激光器，LED和3D对象之类的众多应用中的研发，如镜头，硬币，珠宝，光学和医疗植入物。
picosun®R-200标准ALD系统是热ALD研究仪器的市场领导者。它已成为公司的首选仪器以及专注于创新的研究机构。敏捷设计使最高质量的ALD胶片沉积以及系统的最终灵活性，以匹配未来的需求和应用。具有完全独立的入口和仪器的专利热墙设计使可粒子加工适用于3D物体，晶片和所有纳米级特征的广泛材料。亚博网站下载
由于PicoSun专有的Picoflow™技术，可以实现均匀的均匀性，即使在极具挑战性的通过多孔，超高纵横比和纳米粒子样本。picosun®R-200标准系统配备了用于气态，液体和固体化学品的极其功能性和易于可更换的前体源。与粉末盒，手套箱和几种原位分析系统的集成实现了良好的效果，无论研究区域目前的良好，还是将来可能变得什么都存在高效和多功能的研究。
技术特色
典型的基板尺寸和类型
- 156 mm x 156 mm太阳能Si晶片
- 50-200毫米单晶片
- 迷你批次
- 3D对象
- 粉末和粒子yabo214
- 多孔，通孔，高纵横比（最多1：2500）
加工温度
典型的过程
- AL.2O.3.，Ta.2O.5.，Tio.2，SiO.2，hfo.2，zro2，ZnO，锡，AlN，金属如Pt或IR
基材装载
前体
- 液体，固体，气体，臭氧
- 最多六个来源，有四个单独的入口
选项
- Picoflow™扩散增强剂，n2发电机，定制设计，RGA，天然气洗涤器，惰性加载的手套箱兼容性
ALD的原则
