雷思埃尔菲多波束为SEM和FIB-SEM纳米光刻解决方案建立新的商业标准。它结合了基于3D离子束的纳米制造的最新技术和其他3D纳米制造技术以及优异的EBL性能，有助于释放SEM、FIB-SEM或HIM系统的总纳米制造潜力。
ELPHY多束包括电子束光刻（EBL）、聚焦离子束纳米制造、蚀刻和沉积、氦离子束图案化和气体辅助聚焦电子束诱导加工（FEBIP）的单一工具中的综合多方法纳米图案化功能。
ELPHY多波束产品详细信息
主要应用
- 扫描电镜光刻
- （3D）快速纳米原型设计
- 纳米光刻
- FIB-SEM纳米光刻和纳米图案化
- 氦离子显微术
附件
- 连接到分析SEM、FIB-SEM或HIM供应商仪器上
阶段
纳米光刻“笔”——ELPHY将您的SEM或FIB-SEM转变为纳米制造系统。图像信用：raith
梦想不到的可能性
- 为广泛的纳米制造和纳米光刻应用提供免费全球支持基础设施
- 全面的现场系统安装和培训
- 灵活升级（置换）概念，可使用整个Raith产品线
- 最大速度20 MHz双DAC寻址，用于X和Y远光偏转（16位），具有低噪声差分输出
- 通过用户身份验证和相关的特定系统参数管理真正的多用户管理;用户发现他们的系统离开它
- 独立的热稳定和射频屏蔽19英寸电子单元，采用DSP技术，提供最高精度、最低噪音和长期稳定性方面的终极性能，实现复杂应用
- 精确的六个额外的乘法16位DAC，用于多级光刻、最高精度叠加对准和具有亚纳米步长控制的写入场校准
- 带触摸屏显示的多I/O信号路由器，用于在ELPHY和与EDX/WDX/共享相同外部扫描输入的其他辅助设备之间进行简单的自动或手动信号切换…
- FLEXposure定向扫描模式、灵活图案属性管理器、配方管理器和GDSII图像图案（POI）功能
- 易于使用、完全集成的Raith NanoSuite软件
- 专用的NanoPECS邻近效应校正和先进的3D光刻软件模块、校准标准、测试样品、启动套件和其他配件
依靠经现场验证的技术并为未来做好准备
ELPHY纳米光刻和纳米制造升级套件是通过加速FIB-SEM、SEM和HIM进入电子束和离子束光刻领域的完美、最灵活和最具成本效益的解决方案。ELPHY是市场上分布最广的SEM/FIB光刻附件，其安装记录约为1000台。Raith Nanosuite软件与ELPHY以及完整的Raith系统结合，保持了工艺兼容性，简化了升级。
埃尔菲多波束应用
- 量子效应器件-A。Nadzeyka，蔡司客户演示Raith
- 用于传感应用的纳米机械谐振器-加利福尼亚州阿尔伯塔M.阿里
- 生长速率研究用绝缘体沉积-S。莱思鲍尔迪克有限公司
- 导电三维沉积优化接触电阻-S。鲍尔迪克，G。皮亚森斯基Raith股份有限公司
