加坦氏精密蚀刻涂层系统（PECS）™) 二,是一种台式宽光束氩铣工具，用于处理样品的涂层和抛光。这两个步骤可以在同一样品上完成，而不会破坏真空。
PECS II系统是一种完全独立的台式工具，可使用两条宽氩光束抛光表面并消除损坏。该技术适用于为扫描电子显微镜（SEM）、光学或扫描探针显微镜（SPM）生成优质样品这些样品是成像、能量色散x射线光谱（EDS）、阴极发光（CL）、电子束感应电流（EBIC）、电子背散射衍射（EBSD）和其他分析方法的理想样品。
PECS II系统采用专利WhisperLok®具有温度控制液氮冷却阶段（可选）的技术。此功能有助于检查由于与传统研磨程序相关的热量而发生的样品熔化或结构变化。
PECS II系统集成了一个10英寸触摸屏，以增强初学者和专家用户对抛光过程的控制和再现性。数字变焦显微镜实时监控抛光过程，并将彩色图像保存在数字显微照片中®当样品在SEM中时，用于审查和调查的软件。
主要特征
- WhisperLok系统可在不通风主室的情况下加载和卸载样品
- 使用低能量聚焦笔式离子枪研磨损伤敏感表面，包括CL或EBSD
- 0.1–8.0 keV的可变能量：可调低能铣削以减少非晶层，更高的能量以提高铣削速度
- 液氮试样冷却可去除镓迁移和氧化等伪影
- 10英寸彩色触摸屏控制，无需电脑即可快速、轻松地访问所有控制参数
- 用于铣削过程中瞬时操作的数字变焦显微镜
- 数字显微图像软件中的彩色图像存储有助于存储和应用光学图像，以便与其他分析系统相关联
- 当目标材料被溅射到样品表面以减少或保护SEM中的电荷时，溅射沉积是可能的
应用
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规格
| 离子源 |
|
| 离子枪 |
两个带稀土磁体的潘宁离子枪 |
| 铣削角度 |
±10°，每支枪可独立调节 |
| 离子束能量（千电子伏） |
0.1 – 8.0 |
| 离子电流密度峰值（mA/cm）2.) |
10 |
| 硅的研磨速度(µm/h) |
90 |
| 光束直径 |
使用气体流量控制器或放电电压进行调节 |
| 标本台 |
|
| 样本大小（长x高，毫米） |
32 x 15 |
| 旋转（rpm） |
1 – 6 |
| 光束调制 |
单人、双人，范围可调 |
| 观看 |
带PC和数字显微照片存储的数字变焦显微镜（可选） |
| 真空 |
|
| 干式泵送系统 |
支持80升/秒涡轮拖动泵的两级隔膜泵 |
压力（托）
基地
操作 |
5 x 10-6
8 x 10-5 |
| 真空计 |
主室冷阴极式
背压泵用固态泵 |
| 样品气闸 |
WhisperLok技术 |
| 样本交换时间（分钟） |
<1 |
| 用户界面 |
|
| 10英寸彩色触摸屏 |
操作简单，可完全控制所有参数和配方操作 |
| 尺寸和实用程序 |
|
| 总尺寸（长x宽x高，毫米） |
575x495x615 |
| 装运重量（千克） |
45 |
功耗（W）
手术期间
枪响 |
200
One hundred. |
| 通用100–240 VAC（Hz）电源要求 |
50 – 60 |
| 氩气（psi） |
25 |
规格可能会有变化。