Angstrom Engineering提供低压化学蒸气沉积（LPCVD）系统该专门设计用于满足碳纳米管和石墨烯研究的高温需求。
为了满足这些需求，Angstrom开发了一种水冷却的炉子，该炉子可以达到高达1100ºC的温度，但可以迅速冷却。可以使用不同尺寸的腔室管，范围从φ2in和φ8in，从而可以将单个小样品处理至6英寸晶片的批次。
为了满足石墨烯，碳纳米管和其他2D晶体的不断增长的研究市场的要求，Angstrom开发了一个独特的系统，该系统允许准确的过程控制和流程灵活性，同时将用户安全作为重要功能。此外，完整的互锁系统可确保用户受到系统中存在的高压，工艺气体和高温的保护。
如果发生PLC或计算机断开连接，则心跳传感器确保该系统保持在安全安全状态。借助全自动过程控制系统，用户可以通过24英寸触摸屏接口轻松构建，存储和执行高达50个步骤的复杂食谱。对于每个过程，存储数据日志，可以通过USB接口下载并使用所需的Office软件进行研究。
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主要特征
- 压力控制/气体输送：最多12个质量流控制器；并利用节流大桶蝴蝶阀从100mtorr到500torr的下游压力控制。
- 温度控制：单个区域石英灯炉具有6英寸均匀温度区域；自动调整功能允许稳定的温度控制；在10m中快速加热至1100ºC；并在2m中从1100ºC到800ºC快速冷却。
- 安全电路（软件和硬件）
- 封闭的框架和安全保护
- 易燃气体传感器（H2）
- 数据记录，可编辑食谱和受密码保护的访问控制
- 24英寸触摸屏用户界面允许食谱创建和查看测试结果
- PC/PLC控制器，包括基于Windows的食谱和控制软件
反应堆规格：
- φ50至φ200mm石英管腔室
- 可以根据需要利用和更改不同尺寸的石英管
- 下游端法兰，与泵送和测量快速连接
- 上游端法兰，与气体歧管的快速连接
- 可容纳最多150mm x 150mm的单独或多个基板
- 定位叉使将法兰和管子放置有可能安全，快速连接