高级磨料中的前CS CS胶体二氧化硅悬浮液在碱性二氧化硅颗粒（pH 9-11）碱基中包含球形二氧化硅颗粒，该碱（pH 9-11）碱是抗拒干燥并减少重结晶的可能性。yabo214
前CS胶体二氧化硅由80nm或50nm平均粒径的晚期磨料提供，非常适合半导体晶片，蓝宝石晶片，陶瓷和金属图像的化学机械平面化（CMP）。
如果pomasol CS胶体二氧化硅在抛光布上或工件上长时间干燥，将其干燥，它会干燥，它会柔软，从而减少随后刮擦的可能性。
申请
前CS胶体二氧化硅的主要应用包括：
- 蓝宝石的化学机械平面化（CMP）
- 硅晶片和其他半导体材料的化学机械平面化（CMP）亚博网站下载
- 陶瓷
- 石英
- 硝酸甘露
- 金相标本的最终抛光