原子层沉积:原则、特点、和纳米技术应用,第二版

原子层沉积:原则、特点、和纳米技术应用,第二版

第一版于2008年出版以来,原子层沉积(ALD)已成为一个强大的,有时候喜欢,沉积技术。

这个开创性的专著的新版本是第一个文本审查ALD从实用的角度全面的主题。它涵盖了ALD微电子(MEMS)和纳米技术的应用;许多重要的新的和新兴应用程序;热过程ALD生长半导体纳米厚的电影,氧化物,金属氮化物;和有机的形成和混合材料。亚博网站下载

点击这里获取更多信息。

告诉我们你的想法

你有检查、更新或任何你想添加到这个内容?

离开你的反馈
你的评论类型
提交