喷溅是众所周知的物理气相沉积(PVD)方法发现在几个产品应用。而商业溅射系统是专为成熟的流程的大规模生产量，需要研究和开发目的，其中灵活性通常比体积更吞吐量较小显著规模溅射系统。
此外，较小的溅射系统也可用于较小的初始生产。本文介绍了用于低体积工作(如研究和开发)的小型溅射系统的特点和功能，特别是在圆形旋转基板工作台的周长周围使用多个目标的共焦配置。
更小的实验室占地面积和更低的成本是小室尺寸的关键优势。此外，小圆形阴极对目标材料的投资较少。亚博网站下载商业上可得到的较小的圆形阴极通常在目标上有一个夹具，从而使目标材料的快速和容易的变化。亚博网站下载这反过来又使得拥有和使用许多不同材料的目标来促进许多方面的开发工作成为可能。亚博网站下载
小溅射系统的配置，
这样一个较小的溅射系统可以很容易地配置在任何所需的方向，溅射水平，溅射向上，或溅射向下。这种完整的三轴能力能够利用任何所需的泵配置，如涡轮或低温。此外，一个简单的单腔室可以用于完全通风的装卸或手动或机械化转移臂负载锁定。
对于最佳的多功能性的一个重要的配置方面是阴极，其成角度在朝向它在共焦配置的环内部为中心的旋转衬底载台。此配置提供每个阴极以在整个阶段表面提供足够的覆盖沉积旋转时，基片（S）上提供可接受的均匀性的能力。使用充足的电力供应和控制，有可能无论在一次共沉积单独地或两个（或更多）触发这些阴极。
它可以使用任何数目和类型的期望的阴极电源，如脉冲DC，RF或DC。这些电源都便宜，因为他们会比那些大高容量设备使用更小。app亚博体育此外，低功率阴极减少用于这种设施的支持，所需的总冷却水或所需的电功率的需求。
在气体系统中可以包括多个气体通道，这是反应溅射所需要的，并且可以根据需要增加上游或下游的压力控制。
另一个可以扩展实验和工艺开发的通用性的方面是基片级温度能力，通常是级加热器;然而，它也有可能有一些冷却，虽然有点多。它也可以执行可选的事情，如衬底偏压和特征，如离子束或溅射蚀刻。
它是可以固定阴极计数，位置和朝向以更低的成本或具有一定程度的机械调节能力诸如距离或角度。显然，除了多个阴极的将导致稍大室中，并且加入每个阴极或电源或其他上述特征的涉及一些成本要素。
不过，如果有必要具备这些功能，那么他们需要包括是否在一个大的系统或在一个较小的平台。总体上，可以纳入到一个大系统中的任何功能可以被添加到一个小的。
结论
参与加成的特征更小的溅射系统的成本肯定会比较小放大，可以通过系统更高。因此，较小的腔室中，共焦阴极阵列的方法仍然是一个可行的方法与其它方法相比，以在大学实验室或商业设施或者配置用于开发工作的溅射系统时具有所有必需的功能以较低的成本。
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