薄膜沉浸亚博网站下载是一个真空过程,它涉及对多不同对象表面应用纯素涂层亚博网站下载涂层或薄膜通常有厚度微子和安格斯托姆,可分层结构中单素或多素
文章覆盖使用石英晶体监控控制薄膜沉积法基础原理
蒸发法关键类沉降法 高吸尘室内固态物加热吸尘室内即使是相对低蒸气压也足以拉高蒸气云,然后以涂层或薄膜的形式凝固槽表层这一过程,包括常用室设计常见类型,是通过石英晶体成功控制厚度和速率的理想选择
关键概念类型测量控制包括在真空室内安装振荡晶体以便实时接收沉积,晶体以可测量方式受沉积影响具体地说,当沉积物增加晶体质量时,振荡频率将下降
振荡频率变化由电子工具连续记录,电子工具通过执行适当的数学函数转换频率数据为薄膜沉积厚度数据数据包括瞬时速率和累积厚度
市场很容易提供这些传感器和装置,包括综合包件,不仅观察并显示厚度和速率数据,还输出其他沉积系统元
系统将使用模拟驱动信号驱动闭路系统基于速率数据,从而使系统在发生沉降时保持预设速率此外,它还将特征化其他输出与函数接口像源开关实现预定定定值后触发关闭
频度即实物理测量,剩余为数学解释基于某些假设一种假设是所有频率变化完全由晶体脸部膜厚引起
频率变化也可能由晶体瞬时温度变化引起,并误读为薄膜厚度此类瞬态典型有限持续时间,在大多数情况下对测量沉积产生微小总体影响万一瞬间出奇 可能是温度问题 而不是实际沉降
可能有几种蒸发过程室物理配置,其中最常用的室底有热源和蒸发素源,蒸发流从底向上上升,沉积从底向旋转基控件
系统上方有位物理百科关口打开时,子串和晶监视器暴露于沉降关机关闭后 子串必须保护 免沉降水晶通常在百叶窗关闭时屏蔽免沉降
Quartz晶速率控制器通常允许编程热剖面设计预设素材由用户实验测定每种源/素材并通常格式化控制器,将两条相序功率斜坡提升到某些水池水平并在那里保留一段时间
优先斜坡向上拉慢并结束于蒸发下方并保持适当均衡度后再向上推向蒸发第二斜坡上拉 最优必须是实电量 实现期望沉积率
完成最后浸泡后,开关程序由控制器开机,并转换为闭环电控件以保持预置沉积率直到实现编程底片最后厚度
闭合循环控制器通常是PID控制器,用户控制参数包括不使用所有三种选项控制器中可能有许多不同选项,例如按安格斯托姆沉积速率/秒建立闭合循环控制并持续受此控制,然后上下调速率新水平并保持该率直到编程定定时厚度实现时全程可能多受控率段
晶体有细节地址,例如基底厚度校准读数尽管如此,它只能监听直接登陆自控的薄膜存物然而,这不是用户真正想理解或控制的东西子串上的内容引起用户兴趣因此,有必要进行物理测量以比较晶体读数并计算编程工具中校准因子(通称“工具因子”)供后续验证
晶体故障是另一个关键点新晶体初始操作频率(典型6.0MHz)将因该物料沉降而下降振荡需要非常好稳定因此,建议在故障点前修改晶体以避免拆载值子块的风险,因为晶体可能因噪声问题或其他原因提前失效。
结论
Quertz晶速率显示器/控制器几乎都用于所有蒸发器,电子波束类型或丝形/船型主要原因是沉积率与源驱动力之差在大多数此类工具中控制器允许更好地控制速率和厚度,而不论这种变异
水晶监控技术可应用于松散系统,但由于数项原因未广泛使用原因之一是沉积率对阴极驱动电源的充分稳定性此外,定位晶体在典型松散室中也很困难,并有可能发生等离子干扰
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