通过SEM清洁改善半导体行业的成像

纳米技术正在通过巨型进展,半导体工业朝向更小和更小的部件。这激发了需要更高分辨率和放大的需求。扫描电子显微镜或SEM广泛用于观察曲面特征,在200,000倍的范围内。在SEM成像中的分辨率和放大的主要原因之一是由于SEM真空室中的氢污染是由于氢污染。当污染沉淀在分析物表面上时,由于与电子束的相互作用而形成聚合,并且形成非导电层,当成像看起来像黑色矩形时,不允许可靠的测量。

SEM清洁设备 - GVapp亚博体育10x DS AsherTM

IBSS组介绍了GV10x下游(DS)asherTM2009年,用于去除cd - sme和Review sme中的碳氢化合物污染的半导体行业。由于这些半导体电晶体是为研究大型半导体晶圆而设计的,因此它们的真空室尺寸比标准半导体电晶体大得多。因此,行业需要一种更有效的碳氢化合物清洗技术,GV10x DS Asher实现了这一要求。

该设备具app亚博体育有创新的专利设计,能够在比其他商业上可用的污染除去系统更小的压力下运行。因此,可以均匀地从大腔室均匀地除去碳氢化合物。除了清洁CD-SEM的大型腔室并查看SEMS,IBSS还报告说,也可以有效地清洁标准SEM。由于该设备高效,因此系app亚博体育统的停机时间显着降低。GV10X的清洁周期涉及用户准备SEM的时间进行清洁,清洁SEM并允许SEM返回其正常操作模式。随着GV10X在涡轮分子泵运行的压力下操作,该清洁循环基本上减小。

案例分析

德国慕尼黑英飞凌的杰拉尔德Neumann使用GV10x从他的SEM中取出碳,他用于研究半导体元件。如果未使用GV10X,则仅在200,000倍倍率下扫描的1分钟将导致碳氢化合物污染,这将完全阻挡被检查的表面。

在清洗10分钟后,观察到在20万倍的放大倍数下进行1-2分钟的扫描不会看到任何污染影响。据诺伊曼先生说,GV10x有非常快速和有效的清洁。清洁可以用主动涡轮分子泵完成,它开始时不排气腔。

扫描电镜扫描时间为1分钟,放大倍数为200000倍。左侧图像在GV10x清洗前拍摄,右侧图像(样本的不同部分)在清洗5分钟后拍摄。

图1。扫描电镜扫描时间为1分钟,放大倍数为200000倍。左侧图像在GV10x清洗前拍摄,右侧图像(样本的不同部分)在清洗5分钟后拍摄。(由英飞凌科技)

Pierre Hovington在加拿大的Hydro Québec也使用了GV10x,他在那里使用扫描电子显微镜检查粒子。yabo214他观察到,如果样品被检查的时间越长,扫描电镜上的图像对比度就会降低。此外,在高倍检查的情况下,指示碳氢化合物的黑色区域,将在样品上看到。用GV清洗扫描电镜10倍后,不再见对比度损失。样品上的黑暗区域也被移除了。在扫描电子显微镜下,ibss GV10x DS等离子体清洗系统对碳氢化合物污染是非常有效的。这对于现场分析是非常重要的,该系统可以在相对高的真空下使用,允许在不冷却/重新加热物镜孔径的情况下对现场样品进行去污。

在30分钟GV10x清洗前(左)和后(右)检查2小时时的EM图像。

图2。在30分钟GV10x清洗前(左)和后(右)检查2小时时的EM图像。(礼貌水电-魁北克)

结论

IBSS集团介绍了一种新的和更有效的方法,可以使用GV10x从SEM和其他分析系统中除去烃污染。案例研究证明了GV10 X是SEM清洁的高效工具,并将使能获得改进的分辨率和SEM的放大倍数

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    肠易激综合症。(2019年5月01日)。通过SEM清洁改善半导体行业的成像。Azom。在9月13日,2021年9月13日从//www.washintong.com/article.aspx?articled=8588中检索。

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    肠易激综合症。“通过SEM清洁改善半导体行业的成像”。AZoM.2021年9月13日。< //www.washintong.com/article.aspx?ArticleID=8588 >。

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    肠易激综合症。“通过SEM清洁改善半导体行业的成像”。Azom。//www.washintong.com/article.aspx?articled=8588。(访问于2021年9月13日)。

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    ibs组。2019。通过SEM清洁改善半导体行业的成像.Azom,于9月13日浏览2021年9月13日,//www.washintong.com/article.aspx?articled=8588。

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