感知并发等离子源提供提高Etch率和控制

高密度等离子源比传统并行板等离子系统多长

常规系统缺陷

传统RIE中等离子密度受限,将RF能量联通等离子体亚博网站下载限制某些材料沉积或刻印率低压下这个特殊问题变得非常尖锐, 并使用RIE效率等离子密度极低传统等离子体源通常达到0.5-5.0x1010cm3范围等离子密度源典型显示等离子密度下降和拉速率随压力变化使用感知式联动等离子源时,允许高等离子密度,因为电量通过感知式联动生成磁场转入散数等离子低压处理在许多方面都是有益的它可以严格控制高侧比结构中的异步并减少微载波效果

感想组合等离子源的优异

感知式联动等离子源比高密度源有多项优势,其中包括:

• 设计简单性
• 不太严格操作压力
• 不需要磁场
• RF电量比微波系统低频提供

进化组合等离子

典型演化卷积等离子线表列如下:

• 氧化物
• 深硅战壕
• 多边仿真
• 多边基
• 活动装置通过辐射实现

下图显示Trion系统之一显示比较方案选项

图1Minilock-Phantom三型反应离子带吸附锁

结论

有可能从RIE喷射中获取更高拉速率和剖面控制、增强选择性、提高均衡性并大幅减少污染和辐射损害

亚博网站下载这些信息取自Trion技术提供的材料并经过审查修改

详情请访问三环技术.