写的AZoM2010年11月9日
Makoto Nanko Uemura克己
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AZojomo体积(ISSN 1833 - 122 x) 2010年11月6日
主题
文摘
关键字
介绍
实验的程序
结果与讨论
结论
引用
详细联系方式
文摘
Ni - 5摩尔% Al合金为0.5摩尔% Cr除了准备了电弧熔炼过程。氧化过程是由温度从1000到1200°C公司/首席运营官缓冲区,以避免氧化镍。在1000年和1100°C,氧化2O3棒状沉淀形成了少量的粗Cr2O3杆——就像沉淀在不同类地内部氧化带。艾尔2O3棒状沉淀似乎被Cr覆盖2O3。在1200°C,氧化(铝、铬)2O3棒状沉淀形成均匀。内部氧化带的形态暗示核Cr的形成2O3在内部氧化带组成的2O3沉淀不发生较低的氧化温度均匀。
关键字
内部氧化镍(Al)固溶体、Cr、2O3Nano-rod数组
介绍
最近nano-rod阵列结构得到了极大关注高科技的应用,如电子、光学和光电[1 - 6]。他们的组件和设备应用等半导体生产过程产生的汽相处理(6 - 12)和腐蚀过程[13 - 16]。这些nano-rod阵列结构的生产过程需要昂贵的真空室等设备。app亚博体育此外,nano-rod阵列结构氧化物陶瓷亚博网站下载材料是有限的,如氧化锌、TiO2和SiO2。模板技术,直接nano-rod阵列制造选择性沉积与综述数组,模具也已经应用于制造nano-rod数组结构(1、5、17 - 19)。粘接强度衬底和机械强度的陶瓷棒产生的过程不是那么高。他们的流程产生的纳米陶瓷棒只是松散坚持底物。
内部氧化是一种氧化模式形成的氧化物沉淀在里面的合金。在高温氧化/耐腐蚀、内部氧化非常重要,因为合金的化学成分可能降低合金性能。另一方面,内部氧化已被应用于制造oxide-dispersion加强合金[20]。在倪(铝)合金的情况下,沉淀物的内部氧化有棒状或针状合金表面形状垂直于[21]。内部氧化物形貌的氧化带(称为IOZ)这些合金可应用于准备nano-rod数组后删除IOZ倪。作者的团队提出了一个独特的生产过程使用的内部氧化镍氧化物nano-rod数组结构(铝)合金[25]。Nano-rod数组结构成功地制造了内部氧化和电解抛光的稀释倪(铝)合金。因为nano-rods嵌入到衬底、高控股预计这些nano-rods强度相比与传统nano-rod数组结构由气相沉积或腐蚀过程。
当添加少量的铬镍(Al)固溶体,Cr将氧化后形成的2O3沉淀。因为Cr2O3具有相同的晶体结构-艾尔2O3,Cr-doped2O3沉淀(即。ruby)可以获得。摘要,内部氧化镍的行为(Al)固溶体讨论了少量的Cr为了制造Cr -掺杂2O3nano-rod阵列结构。
实验的程序
Ni - 5摩尔% Al合金为0.5摩尔% Cr之外(5 Al - 0.5 - Cr)是由一个电弧熔炼过程。Ni - 5摩尔% Al合金(5)也准备的比较。合金在退火在1300°C 12 h真空。合金被切割和抛光镜面加工的钻石泥浆。样品在室温下在乙醇超声清洗和干燥空气在实验室。氧化过程是由温度从1000到1200°C真空有限公司/首席运营官缓冲区,以避免氧化镍。电解抛光过程与硫酸溶液与常数4 V是应用于氧化样品暴露在合金表面氧化沉淀。显微组织观察氧化样品的扫描电子显微镜(SEM)。氧化物沉淀的识别阶段是进行用电解法抛光表面,利用x射线衍射(XRD)。
结果与讨论
图1 - 3显示横断面的观点5和5 al - 0.5 - cr氧化在1000°C,分别为1100人和1200人。棒状氧化沉淀在5和5 al - 0.5 - cr。然而氧化杆随机取向有时,特别是,Cr添加的。粗沉淀经常被观察到在5 al - 0.5 - cr氧化在1000和1100°C。
图1所示。横断面的样品氧化在1000°C。
图2。横断面的样品氧化在1100°C。
图3。横断面的样品氧化在1200°C。
图4显示了x射线衍射模式5和5 al - 0.5 - al氧化温度从1000到1200°C。在5 al主要由θ-Al氧化产品2O3在1000°C。与incrasing氧化温度,α——阿尔2O3成为predominat 5。氧化产品5 al - 0.5 - al Cr由主要组成α状态”2O3在1000°C。Cr除了导致更快的θ/α转换。因为Cr2O3晶体结构是一样的α状态”2O3、铬2O3作为催化剂θ/吗α的转型。
图4。XRD的模式样本在不同温度下氧化。(一)5 (b)和艾尔5 - 0.5 - cr。
图5显示了高放大图像的氧化物沉淀氧化在1100°C (a)和1200°C (b)。氧化物沉淀形成于1100°C由黑暗谷物覆盖部分的浅灰色。虽然艾尔2O3中检测出所有的氧化样品通过XRD、氧化物沉淀由艾尔2O3可能被Cr覆盖2O3在低温下。另一方面,氧化沉淀在1200°C的样品氧化有统一的对比见图5 (b)。Cr2O3将溶解到艾尔2O3谷物immideatly。
图5。高放大图像的横截面5 al - 0.5 - cr氧化在1100°C (a)和1200°C (b)。
在内部氧化5 Al - 0.5 - Cr,铝氧化前的内部氧化铬是氧化在内部氧化带consisiting艾尔2O3precipetates在倪(Cr)固溶体materix,因为铝对氧亲和力高于Cr。然而他们的氧气分压的平衡Cr / Cr2O3和铝/铝2O3远低于氧化气氛,也就是说,公司/首席运营官平衡。只有铝氧化的区域内部是可以忽略的。在高温下如1200°C,之间的相互扩散2O3和铬2O3是如此之快,固体soution形成最佳答案。图6显示了一个示意图的氧化物沉淀IOZ 5 al - 0.5 - cr。
图6。内部的氧化镍的示意图(铝、铬)固体的解决方案。
Nano-rod数组结构可以通过使用内部氧化镍固溶体(铝、铬)。图7显示了扫描电镜的图像nano-rod结构镍固溶体(铝、铬)。IOZ准备在1000年和1100°C的某个时候由更大的氧化沉淀。Nano-rod数组结构组装在1200°C比在较低温度下的更均匀。(铝、铬)2O3nano-rod数组可以由使用Ni(铝、铬)固溶体高温氧化等1200°C。
图7。SEM图像nano-rod al - 0.5 - 5日cr阵列结构内部oxidaiton和电解抛光。
结论
内部的氧化镍- 5摩尔% Al合金为0.5摩尔% Cr除了研究准备nano-rod数组结构通过使用内部氧化和电解抛光。在1000年和1100°C,氧化2O3棒状沉淀形成了少量的粗Cr2O3包含棒状沉淀中不同类地内部氧化带。细杆沉淀最可能组成的2O3谷物被Cr覆盖2O3。在1200°C,氧化(铝、铬)2O3棒状沉淀形成均匀。内部氧化带的形态暗示核Cr的形成2O3在内部氧化带2O3沉淀不均匀发生在较低的温度。倪Nano-rod数组结构可以获得成功(铝、铬)固体的解决方案通过使用内部氧化和电解抛光。
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详细联系方式
Makoto Nanko Uemura克己
大学机械工程系,长冈技术
长冈Kamitomioka,日本新泻940 - 2188
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这篇文章也发表在印刷形式“材料和材料加工技术的进步”,十三至十八12 [1](2010)。亚博网站下载