薄膜计量处理和等离子体诊断仪器

HORIBA Scientific - Thin Film Division提供先进的薄膜计量、加工和等离子体诊断仪器，用于研究、工业和质量控制应用。

我们的核心技术包括:

• 椭圆形测定法
• 反射仪
• 光发射光谱学
• 偏振光

无论是单一技术还是用于强大的定制解决方案的组合。

薄膜计量解决方案

光谱椭圆计

光谱椭偏仪可以精确表征一系列特性，包括层厚、光学常数、组成、结晶度、各向异性和均匀性。对于单层和复杂的多层堆栈，厚度的测定范围从几埃到几十微米都是可能的。

原位椭圆形状

原位光谱和激光椭偏仪允许实时监测和控制薄膜沉积和蚀刻过程与亚单层分辨率。原位光谱和激光椭偏仪提供了实时计算的薄膜厚度，光学常数，薄膜堆栈的组成在不同的环境。

全自动椭圆计

自动光谱和激光椭偏仪如UT-300和PQ Ruby提供薄膜厚度测量，光学常数和薄膜组成的生产线监测。提供先进的自动化，标准化和强大的数据，以满足半导体行业的高级需求，用于批量生产。

大面积计量平台

平板测量系统集成了光谱椭偏仪和DUV光谱反射仪。他们允许精确和快速的表征薄膜厚度，光学常数和反射率的图案，小到10微米和多层材料。亚博网站下载

现场过程控制

• 光发射光谱学
• 椭圆形测定法

此信息已采购，从Horiba Scientific提供的材料审核和调整。亚博网站下载

有关此来源的更多信息，请访问HORIBA科学。