纳米级二氧化硅极具用途。当抛光半导体表面时，除了出色的表面性能，纳米级二氧化硅还可以用作磨料。
该化合物改善了钢筋，抗剪切能力，噻吩二的等等，因此可以广泛应用于钢，塑料，橡胶和太阳能领域。
图片来源：Bettersize Instruments Ltd.
多亏了化学领域最近的发展，1968年，斯托伯发现纳米硅可以在室温下获得粒径大约接近单分散的球体。这是通过与乙醇溶液中的四甲基硅烷分散的不同比例搅拌氨混合物来实现的。
在许多应用中，需要将纳米 - 硅质分散在液体中。因此，为了进一步了解系统稳定性并提高产品质量和一致性，ZETA电位的测量至关重要。
在此过程中使用了Benano 180 Zeta纳米颗粒的大小和Zeta电位分析仪，以测量纳米硅硅硅硅氧硅势从水性环境中分散的不同批次获得的Zeta电位。
理论和仪器
这改善贝纳诺180 Zeta拟合固态激光器，其波长为671 nm，光源功率为50 mW。通过将电场施加到样品中，带yabo214电的颗粒被驱动到电泳。
从原点散射的光转移的频率是由于激光照射样品时颗粒的电泳运动。yabo214APD（雪崩光电二极管检测器）用于收集12°的散射光信号。
通过使用相分析光散射（PAL）技术，即使是低电泳迁移率的样品的ZETA电位也可以通过Benano 180 Zeta检测到。
实验
在两个状态下测量了四个纳米 - 硅浆液样品的Zeta电位 - 均以其原始浓度（固体含量为10％），并且在水中稀释30倍。
为了确保结果的可重复性并获得标准偏差，每个样品的测量至少三次。
结果与讨论
通过使用四个纳米级二氧化硅悬浮液的Zeta电位PALS技术。每个测量值的相图在图1-4中描述，其斜率与电泳引起的频移相关。每个相图显示一个清晰的斜率，并证明了良好的信噪比，如数字所证明的那样。
图1。样品1＃的相位图和ZETA潜在趋势，原始浓度（左），并稀释30次（右）。图片来源：Bettersize Instruments Ltd.
图2。样品2＃的相位图和ZETA潜在趋势，原始浓度（左），并稀释30次（右）。图片来源：Bettersize Instruments Ltd.
图3。样品3＃的相位图和ZETA潜在趋势，原始浓度（左），并稀释30次（右）。图片来源：Bettersize Instruments Ltd.
图4。样品4＃的相位图和ZETA潜在趋势，原始浓度（左），并稀释30次（右）。图片来源：Bettersize Instruments Ltd.
如图所示，Zeta电位为负，在粒子表面上显示负电荷。一致的Zeta潜在趋势以及相对较小的标准偏差证明了出色的结果可重复性。
鉴于所有样品的Zeta电势均高（> 30 mV），样品不太可能形成聚集体。因此，可以得出结论，样品1＃和样品2＃具有最高的Zeta电位，其次是样本3＃，最低的样本4＃。
显然，样品1＃和2＃是四个二氧化硅悬浮液中最稳定的。此外，在稀释30次后，样品2＃和3＃具有更大的Zeta电位值，这表明比库存溶液的稳定性更好。
表格1。二氧化硅样品的Zeta潜在结果。资料来源：Bettersize Instruments Ltd.
| 样本 |
Zeta潜力
（库存解决方案）（MV） |
Zeta潜力
（30次稀释）（MV） |
| 1＃ |
-55.08±1.18 |
-52.48±0.56 |
| 2＃ |
-43.90±1.2 |
-50.85±0.64 |
| 3＃ |
-35.98±1.07 |
-45.22±0.50 |
| 4＃ |
-33.40±0.77 |
-37.52±0.56 |
结论
Benano 180 Zeta被用来服用Zeta潜力纯净水的高浓度和30倍稀释的四个纳米硅悬浮液的测量。
结果显示了良好的可重复性，从而可以在不同的配方或批处理之间进行稳定性比较，以控制和监视产品质量。
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