用于制造多孔硅纳尼硅纳金属的等离子体加工

生物医学技术领导了利用微针进行有效皮肤递送的方式。Microneedles由各种材料制成，包括垂直的微米尺寸凸起阵列。亚博网站下载

它们设计用于渗透表皮（最外层的皮肤层）并界面表皮和第二个皮肤层，真皮。

已经证明微针技术以实现改善的透皮剂递送活性剂，例如纳米颗粒，小极性分子和大分子，否则会对皮肤不渗透。yabo214

目前，微针受到缺点的限制，包括不受控制的降解和有限的药物负载能力。微针的进步，例如尺寸到纳米级的能力，提供了令人难以置信的优势。

特别是纳尼德是一个有前途的发展。这些微米尺寸针在纳米级水平上集成了特征，并提供了减少的侵入性，表面积增加，加上无痛药物。

管理皮肤本身内部微/纳尼亚群体的过度降解率的控制的能力仍然是一个重大挑战。

的发展多孔硅纳尼龙（psinns）在治疗各种疾病的情况下提供优势，主要是由于它们的生物降解性，可调谐孔隙度和用于非侵入药物递送的机械强度。

通过使用牛津等离子体100深反应离子蚀刻（DRIE）仪器制造长度为40-50μm的纳米牛阵列，制造低于1μm的尖端直径。这些锐化的纳米纹突起能够穿刺皮肤的最外层，允许递送治疗剂。

制造过程涉及UV光刻图案化，然后利用DRIE工具进行干蚀刻程序。然后通过电化学阳极氧化通过湿法蚀刻工艺进行所得纳米烷基化。

光刻

使用p型，低电阻率硅晶片作为起始基底完成垂直阵列的纳米纸。硅晶片涂有正光致抗蚀剂（AZ^®4562）通过在110℃下烘烤基质之前通过旋涂。

使用铬掩模通过UV曝光将限定的图案转移到基材上。该过程的最后一步涉及光敏涂层底物浸入AZ中^®400K开发人员解决方案。

这导致被移除暴露的抗蚀剂，使光刻图案化的纳尼块的过程进行完成。

德里过程

蚀刻含有光致抗蚀剂图案圆圈的硅​​晶片利用牛津Plasmalab 100 Drie。这是通过进行博世工艺来完成的，然后是RIE上的标准干蚀刻底座完成。

制造纳尼罩阵列是三步过程：

• 利用各向同性硫化硫化硫化物（SF_6.）步骤创建一个尖锐的提示
• 执行博世工艺步骤以在各向异性蚀刻中获得圆柱形柱
• 用八氟环丁烷的混合物重塑纳尼（C）（C_4.F_8.）和sf._6.气体提供更尖锐的尖端，以增强皮肤渗透

在SF._6.步骤，通过使用各向同性的SF来创建纳尼罩阵列的尖锐尖端_6.具有受控时间的蚀刻过程，从而流动速率SF_6.调整气体，保持RF功率和ICP发电机电力。

图片信用：牛津仪器等离子技术

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使用SF的博世蚀刻工艺_6.在蚀刻循环和c中_4.F_8.钝化循环中的气体。c的流速_4.F_8.和sf._6.在两个循环中调整过。

利用APC阀位置和表温度值参加氦气压力，而通过蚀刻和钝化循环比例地实现所需的Si蚀刻深度。

通过超声浴用异丙醇，丙酮和水稍后除去纳米罩阵列的尖端上的光致抗蚀剂。每种溶剂，该过程约1分钟。

通过利用硅纳米纳金属的电化学蚀刻来实现波罗化。在包含氢氟酸（48％）和乙醇的3：1体积比溶液中，电化学蚀刻含有纳尼罩阵列的硅晶片。

在恒定电流密度的时间段内以恒定电流密度进行蚀刻，使PSI层厚度为1.6μm，孔显示在4-11nm的范围内。

这牛津Plasmalab 100 Drie仪器允许制造在将生物活性剂递送到深皮层所需的有效透皮渗透水平所需的形状所需的形状。

DRIE工具还促进了蚀刻纳米棒，孔阵列和光栅设计，用于额外的传感器相关的产品。

致谢

由来自蒙纳士大学纳西亚Tab亚博网站下载assum撰写的材料制作。

此信息已被采购，从牛津仪器等离子体技术提供的材料进行审查和调整。亚博网站下载

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