循环电解法被公认为监测电镀浴中有机添加物浓度的强工具
填充槽中添加物的富集度对储量渗透性、抗拉强度和易焊性有相当大的影响定期持续CVS分析有机添加物可帮助确保连续无问题运算
CVS提供电镀池信息比Hull单元信息更客观Hull细胞提供洗澡条件定性标识,CVS允许板板精补添加剂,从而确保浴场继续正常操作
图像感知ECI技术
CVS分析
CVS是一种电化学技术,用于测量电镀浴池中的有机添加物CVS环绕添加物对电容率的影响-任何类型有机添加物的活动(平面机、亮度机、粒子精化器等)将反映电镀率变化
分析用电化学细胞使用三电机系统电极之一是白金旋转磁盘电极,该电极的潜力在测量期间受工具控制
潜力以恒定速率扫描 电极负电压限值和正电压限值间回转
最小量电镀浴金属 贴上并取出工作电极整段扫描中工作电极电流测量并记录为潜在函数添加活动会波及金属电极电流率
定位率通过计算从工作电极分离金属的必要电荷来确定脱压电量与添加剂活动之间的关系因此可用于量化测量添加剂及其组件
新鲜添加剂用作标准使用量由制造商提供,添加剂在生产槽中的活动表示为新鲜添加剂的富集度(ml/l)。
ECI技术质量®Elite插槽分析器可自动执行CVS专利分析QUALLAB分析器专门设计分析电镀浴池
用户受综合分析程序指导,分析者在报告浴中添加物主动集中前进行适当的计算
CVS布置浴室分析
图1显示示例Voltammgic应用潜力)酸铜打浴
图1图像显示quallib插槽解析器介于此图像中 潜在调节电化学反应
潜力显示在X轴上,左转正数增加正向潜力将变得更强氧化化,负向潜力将产生更强减值条件
流显示Y轴负流对冲氧化 负流对冲
Voltammgrophy多区域关注概列如下。
定点区域 :点一二二三
白金电极填充金属, 流在这个区域为负值电流时间由扫描速率严格定义, 区域电流速率可以精确估计为电流区域金属板数
清理区域 :四分五分返回五分六分
电极阳性潜力用于脱有机物净化白金电极表面净化段对使用CVS时确保准确和可复制结果至关重要
该地区还常用监测酸铜槽中的氯化物水平和可氧化有机污染物
条纹区 :3到4点
金属电极电流变正采掘峰值表示提取任何沉积金属所需的充电
仪表集洋流以测量采掘峰下面积区域以mol-Coulombs报告并显示在图1下方框中
图1典型CVS电波图酸铜覆浴
去除式金属量和板状金属量相等,剥取峰值区与金属板积成比例
因此,比较精确地通过分叉区电流集成量测量金属板比分层区测积量
plate区域还可能发生电化学过程,例如氢分解
吸附区 :5点到6点
有机添加物吸附到这个区域电极表面,尽管没有金属板块本地吸附提高CVS敏感度
图2显示多有机添加物对电压率的影响水处理器或平面处理器等添加器通常会起抑制器作用,降低电镀率
图2某些有机添加物对金属电镀率的影响
开曼人则会提高沉积率应当指出,行业内没有标准添加剂术语,这意味着应始终谨慎处理。
有机添加物经历各种化学变换,包括电镀过程氧化、分片分解、还原和聚合多数产品变换 也会影响电镀过程
CVS向用户提供添加剂有效集中度测量有效集中最能理解到添加物活动即新添加物
这一点比特定物的集中性更相关然而,HPLC和光谱分析等多项分析技术将测量绝对集中度
变换添加物将继续电动化,但不会响应光谱或反射CVS基于电镀过程,它仍然是用户寻找有机添加物活动真度的唯一可行技术
判定添加物及其组件
有机添加物量化测定中心是CVS响应新鲜添加剂用作标准,并按制造商提供
新鲜添加剂用作标准,生产池中添加剂的集中度表示为新添加剂的等效活动将水池补充到适当的添加剂水平极方便,因为这种方法
通常有可能量化电镀浴中的每一种添加物图3用酸铜浴展示实例
载波函数抑制程序速率这一点表现为随着承运人集中度提高而观察到的峰值面积下降
应当指出,承运商的活动量非常高,即使最小增加集中度也会对电镀率产生重大影响。新承运商(由制造厂商提供)曾用此例子加固解析法
排位率随载量从0-1ml/l增加而大为变化载波集中度超过1ml/l后,对电镀速率几乎没有额外影响
光亮度不同光亮度提高促发电镀率提高
亮度活动小于载波活动,即载波和亮度活动差可用以量化每个构件
多家制造商能够提供预混合解决办法,既包含光亮器也包含载波器图3举一例说明这些组件的清晰划分
图3CVS对酸铜浴中载光响应
CVS可用确认光亮度和载波保持生产槽平衡
CVS电镀池分析从利用适当经验大有裨益ECI技术公司投资15年以上开发CVS方法用于各种电镀池
ECI技术除制造CVS仪表外,在提供CVS应用信息方面仍居行业前列ECI技术产品所有用户都可以从CVS咨询中受益
流进检验aditives
CVS是一种强健工具,高度适合供应商对添加剂的外检和用户网站对添加剂的进检
图4举实例说明多片相同亮度之间的变化程度幸运的是,本例子用户通过快速直截了当的解析避免了下沉或过重亮度并失去对浴池的控制
图4变异响应同厂不同批量同异添加物
行业标准
CVS最初开发于1970年代后期,自那以来经历了巨大的增长,大大促进了电厂供应商和用户的工作
几乎所有主要的化学供应商目前都使用这种专利技术对客户浴池进行例行分析或质量控制。
ECI技术仍然是开发和应用CVS的主要驱动力公司CVS仪表分析程序对CVS的持续增长至关重要
多公司和组织使用ECI技术CVS仪表,包括最受信任半导体制造商和印刷布线板,如IBM、德克萨斯工具公司、摩托罗拉公司、英特尔公司、Northrop公司、Tyco公司、照片路由公司、Sanmina公司
CVS可见于美洲、亚洲和欧洲电镀实验室
ECI技术创新工程还得到了研究开发100奖的承认。
CVS应用
切需保持化学平衡,以便通过量化测量电镀解决方案中的有机添加物来预防电镀问题CVS高度适合多项密钥应用,包括:
- 量化确定添加物及其各自的组件
- 个人指纹填充解决方案
- 进出电镀添加检验
- 监控电镀溶液受污染程度
- 排队洗碳处理优化
CVS也是研究、开发及优化新电镀技术的重要技术其中包括:
- 研究多电流过程参数过程对电流解决方案性能的影响举例说,添加物集中度、电流密度、大规模迁移和温度
- 研究添加剂在整个电镀过程的消费和变换
- 研究不同添加物对电镀过程的影响
引用
- Cyclic伏变分解技术
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