精确定量金属氧化物样品的用X射线光电子体光谱(XPS)的化学组合物可能因不定碳污染而受到不利影响,其通常在样品表面上发现。
这篇文章概述了aNexsa™XPS系统从Thermo Scientific™,再加上一个双模单原子和气体团簇离子源,被用来检查使用电离氩团簇清洁金属氧化物的影响。
XPS(也称为ESCA)是一种分析方法,常用于测定样品最顶端1-10 nm处的化学信息。这可能包括一个小的表层碳污染,这可能会影响样品的定量。
大多数XPS系统被提供有离子源,该离子源可用于去除表面材料,以便深度分析或清洁样品。该离子源通常产生惰性气体的单体离子,通常是氩气。
当单原子氩离子轰击金属氧化物时,表面的任何污染都被清除。然而,这些离子也可以穿透下面的样品,导致化学损伤,即使在低离子能量。
Thermo Scientific MAGCIS双模离子源。
通常观察到这种损伤作为氧化物的还原,并且由去除氧和优先溅射引起。然而,Thermo Scientific的Magcis™氩聚类离子源可以解决这种困难。
它能通过大的簇离子使表面溅射。因为这些不穿透氧化物表面,所以这使得能够保持化学状态信息,同时仍然可以从样品中除去任何污染。
双模MAGCIS源也能够产生单原子束,这是对更硬的无机衬底进行剖面的理想选择。这种提供单原子离子和团簇离子的能力意味着MAGCIS源在处理各种类型的样品时既灵活又方便。
本文探讨了如何利用MAGCIS的簇模式来清洁氧化样品,而不导致剩余表面的任何还原。
实验
使用NexSA XPS仪器获得来自二氧化钽样品的光谱。TA.2O.5.将铝箔安装在一个标准样品架上,在应用不同的清洁方法后,在三个不同的区域采集光谱。
光谱是在第一个区域,在它的基态,没有进行清洗。同时,在第二位置,样品在分析前用200 eV单原子离子溅射。最后,在第三个位置,用单电离氩团簇溅射后对样品进行分析。
这Magcis离子源能够使用各种聚类尺寸和光束能量创建氩气群集。在该实验中,簇光束利用4keV的光束能量,簇大小为1000原子。
此外,调查光谱——也就是覆盖整个元素范围的宽扫描——是从没有对其进行清洗的区域以及簇离子束溅射的区域获得的。
结果
图1显示了从Ta获得的XPS测量谱的对比2O.5.样本的基本状态和集群清理状态。虽然这两种光谱比较相似,但基底光谱显示表面有相当数量的碳污染,在285 eV处有相当大的峰值证实了这一点。
图1。氩团簇离子清洗前后XPS测量谱的比较。
通过氩聚类束清洁后,样品表面上的污染显着降低。量化光谱表明表面是TA2O.5..
表1。原子团清理前后的原子浓度。
名称 |
'接受' 原子% |
Cluster-cleaning后 原子% |
C |
50.7 |
0. |
O. |
33.7 |
71.8 |
TA. |
11.8 |
28.2. |
SI. |
3.8 |
0. |
表1突出显示了图1中显示的两个光谱的原子浓度。从图1和表1可以明显看出,在簇清洗后,表面污染不再存在。
图2。单原子氩的ta4f光谱比较+和氩聚类离子溅射清洁ta2O.5..
图2显示了来自三个表面区域的TA 4F光谱的比较:基础,之后的200eV原料离子清洁,并在簇离子清洁之后。单声道离子束清洁的表面显示出明显的还原迹象,在与基谱比较时,通过双峰的低绑定能量侧的肩部确认。
这相当于约30%的表面由于离子引起的化学变化而被还原。200ev单原子离子束的束流能量较低,但仍会降低束流能量。使用更常见的单原子离子束能量,比如1000 eV,会导致更大的伤害。
表2。TA 4F氧化物和溅射清洁前后减少组分的相对强度。
清洗方法 |
助教4 f氧化 |
助教4 f减少 |
没有一个 |
One hundred. |
- |
簇离子 |
One hundred. |
- |
200 ev解体 |
70.4 |
29.6 |
应该注意的是,簇清洁表面并没有显示出这种还原,这证实了在去除碳后表面的化学计量特征得到了保留。表2显示了这些表面组成。
总结
在这个实验中,一个Ta2O.5.使用簇和单颗粒离子清洁样品。与未清洁表面采集的那些相比,清洁后XPS光谱的差异显而易见。
样品表现出相当大的表面损伤(因此降低了信号)时Magcis离子源用于单组织模式。但是,当MAGCIS源以集群模式采用时,没有存在可见的损坏。然而,表面仍然清除不定碳。
即使在低能量模块中+采用离子溅射清洗,发现有相当数量的Ta2O.5.还原,证实团簇离子在分析金属氧化物中可能是至关重要的。
气体簇离子束已经被证明非常适合于成功地清洗无机样品,没有可见的氧化还原迹象,也没有对被测表面产生化学变化的感应。
致谢
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