纳米压印光刻如何应用于光学

纳米压印光刻技术[1][2][3]是一种经过验证的生产技术,可用于多种应用,从生产微透镜[4]到用于创建垂直腔表面发射激光器(VCSELs)[5]。在大多数这些应用中,纳米压印是在晶圆尺度上进行的。

对于更大的区域,辊基纳米压印在[6]上很早就被推荐了。基于精密卷绕对位nanoimprint[7][8][9]已经受到了一些发展。然而,在使用刚性基材的滚到板的无碳材料的情况下,得到的改进要少得多。

为了解决在刚性和不透明基材上大面积高质量纳米压印的局限性,Stensborg开发了基于压印和光固化的卷到板纳米压印工具。它包括一个透明圆筒和一个衬底平移台,并建立在斯坦斯堡的[10]专利概念上。

半透明压印模板附着在半透明压印滚筒上,该半透明压印滚筒包含位于可旋转滚筒内的光学引擎。压印夹是压印模板与承印材料相遇的地方。当衬底材料通过压印接触区时,在该接触区使用聚焦光束在衬底上固化可固化材料。

辊到板的纳米压印工具目前生产和安装,管理底板厚度达10毫米,尺寸达30 × 60厘米2.压印速度每分钟可调1 - 10米。喷墨压印设备和槽模涂布是可选择的,可app亚博体育安装包括大范围内的在线涂布能力。

斯坦斯堡已经进行了初步的印迹测试,这些调查包括以下步骤:

  • 将涂底漆的玻璃基板固定在基板上
  • 在玻璃基板上贴有聚合物箔
  • 光固化压印材料应用槽模涂层

具有大尺寸范围的特征被成功地复制了。显微光学测试结构的线扫描如图1所示,测试全息图的线扫描如图2所示。

一种辊板印迹显微光学测试结构的线扫描(轮廓仪),特征高度约45µm,周期约100µm。

图1所示。一种辊板印迹显微光学测试结构的线扫描(轮廓仪),特征高度约45µm,周期约100µm。图片来源:Stensborg

一种辊印全息测试结构的直线扫描(AFM),特征高度约350 nm,周期约880 nm。

图2。一种辊印全息测试结构的直线扫描(AFM),特征高度约350 nm,周期约880 nm。图片来源:Stensborg

这些特征的周期随高度的变化而不同,相差数量级。图3显示了纳米印迹全息图结构。图4显示了整个纳米印迹过程中该器件的图像,包括印迹模板。

全息图测试图的光学显微图,如图2所示。

图3。全息图测试图的光学显微图,如图2所示。图片来源:Profaktor

在滚筒上安装印版时压印滚筒的照片。

图4。在印版安装在圆筒上时压印圆筒的照片。图片来源:Profaktor

由于所评估的材料组合,模板-印迹分离是非常有效的。

专利光固化树脂材料被用于制造纳米压印板X29印记resin来自斯坦斯堡的人被用于纳米印迹。

除了大面积光固化材料涂层的进一步结果之外,Stensborg还打算发表更多具有更广泛微和纳米尺度特性的印迹结果。亚博网站下载

致谢

由L. Yde原创的材料制作亚博网站下载1, l . Lindvold1, j . Stensborg1, t . Voglhuber2, h .盟ßerhuber2,美国Wogerer2, t . Fischinger2先生,但是2哈克(W. Hackl)3.从Stensborg1, PROFACTOR GmbH是一家2和Forster Verkehr- und Werbetechnik GmbH3.

参考资料及进一步阅读

[1]周世勇,等
[2]王志强,王志强,等。中国机械工程,2014,27 (02):368 - 372
[3]中国机械工程,2018,27 (05):458
[4]七边形(4.4.2016访问)
[5] Verschuuren, M.A,在NNT2011上发表
[6]等。中国机械工程学会b16 (1998) 3926
[7]这些,m.w.,等。Microel Eng 123 (2014
[8]安淑慧,等,先进材料20 (2008)2044亚博网站下载
[9]约翰,J.,等,纳米技术24 (2013)505307
[10]2 .林德波,史丹堡,林德波,林德波林德波德,斯坦斯堡,GB1814552。

这些信息已经从斯坦斯堡提供的材料中获取、审查和改编。亚博网站下载

有关此来源的更多信息,请访问Stensborg。

引用

请在你的文章、论文或报告中使用下列格式之一来引用这篇文章:

  • 美国心理学协会

    Stensborg。(2021年1月20)。纳米压印光刻如何用于光学应用。AZoM。于2021年8月19日从//www.washintong.com/article.aspx?ArticleID=19233检索。

  • MLA

    Stensborg。“纳米压印光刻如何用于光学应用”。AZoM.2021年8月19日。< //www.washintong.com/article.aspx?ArticleID=19233 >。

  • 芝加哥

    Stensborg。“纳米压印光刻如何用于光学应用”。AZoM。//www.washintong.com/article.aspx?ArticleID=19233。(2021年8月19日生效)。

  • 哈佛大学

    Stensborg。2021。纳米压印光刻如何应用于光学.viewed september 21, //www.washintong.com/article.aspx?ArticleID=19233。

问一个问题

关于这篇文章,你有什么问题想问吗?

离开你的反馈
提交