解决微标志和纳米光学的纳米印刷的挑战

纳米印刷光刻[1] [2] [3]是一种用于一系列应用的验证生产技术,从创建微粒[4]到其在生产垂直腔表面发射激光器(VCSELS)中的使用中[5]。

在大多数这些应用程序中,纳米印刷以晶圆量表执行。在较大区域的早期,已经提出了基于辊子的纳米印刷品[6]。基于卷到滚动的纳米膜[7] [8] [9]经历了几个发展,在使用刚性基板的卷到板的情况下,少得多的精制。

为了解决不透明和刚性底物对大面积纳米板的局限性,Stensborg目前正在组织和研究基于紫外线的卷到板纳米膜工具。

它是根据[10]的概念建立的,包括基板翻译阶段和透明辊。半透明的印刷板或邮票可以连接到滚筒上。

紫外线的来源是在此辊子中发现的。紫外线的水冷范围会发出针对nip的光线,这是基板和滚筒相遇的位置。

该设备的生产是为了管理厚度高达10毫米的底物,尺寸为30 x 60cm²。打印速度的速度可以从每分钟1 m到每分钟10 m。

该工具尚未完全完整,因为仍然必须安装插槽模具涂料和喷墨打印设备,以特别包括大面积的涂料能力。app亚博体育

Stensborg已经执行了初始打印测试。将玻璃板固定在花岗岩基材桌上,以进行这些研究。将聚合物箔放在玻璃板的顶部,并覆盖有紫外线策略的烙印材料。

具有广泛尺寸的特征成功地复制了。图1显示了微光学测试结构的线扫描,而图2显示了测试总体的线扫描。

卷到板印迹的微观光学测试结构的线班扫描(科技表),特征高约45 µm,周期约为100 µm。

图1。卷到板印迹的微观光学测试结构的线班扫描(科技表),特征高约45 µm,周期约为100 µm。图片来源:Stensborg

线到板块印迹全息测试结构的线扫(AFM),特征高约350 nm,周期约为880 nm。

图2。线到板块印迹全息测试结构的线扫(AFM),特征高约350 nm,周期约为880 nm。图片来源:Stensborg

特征的周期以及高度随多个数量级而变化。图3显示标准印刷全息图结构。在图4中,可以观察到整个UV印刷板(包括打印板)的设备图像。

与图2相对应的全息图测试模式的光学显微照片。

图3。全息图测试模式的光学显微照片对应于图2。图片来源:Stensborg

滚筒的照片在印刷板上安装在滚筒上的印刷板。

图4。滚筒的照片在印刷板上安装在滚筒上的印刷板。图片来源:Stensborg

由于评估了材料组合,分离非常简单。箔完全不需要安装在玻璃板上以在印刷后实现有效的自动分离。

使用了由紫外线策划的PDM或紫外线策划的树脂材料以及Stensborg的X29印迹抗性产生的印刷板。在两种组合中都立即分离,因此箔从印刷板中隔离。

斯滕斯堡will publish additional printing results with a greater range of micro- and nanoscale characteristics, and additionally the initial results of large area coating of UV-curable materials.

作者要感谢Rollernil和Epaper项目的资金(由奥地利研究促进局FFG资助)。

致谢

由最初由L. yde撰写的材亚博网站下载料生产1,L。Lindvold1,J。Stensborg1,T。Voglhuber2,H。außerhuber2,S。Wögerer2,T。Fischinger2,穆尔伯格2和W. Hackl3来自Stensborg1,Profactor GmbH2和Forster Verkehr-和werbetechnik GmbH3

参考和进一步阅读

[1] Chou,S.Y。等,J Vac Sci Technol B 14(1996)4129。
[2] Haisma,J。等。J Vac Sci Technol B 14(1996),4124。
[3] Schift,H.,J Vac Sci Technol B26(2008)458。
[4]例如赫普塔贡,http://hptg.com(上次访问4.4.2016)
[5] M.A. Verschuuren,在NNT2011上发表
[6] Tan,H。等人。J Vac Sci Technol B 16(1998)3926。
[7] Thesen,M.W。等。Microel Eng 123(2014)121。
[8] Ahn,S.H.等,高级材料20(2008)2044。亚博网站下载
[9] John,J。等,纳米技术24(2013)505307。
[10] Lindvold,L.,Stensborg,J.,Rassmussen,T.,EP 1150843 B2。

此信息已从Stensborg提供的材料中采购,审查和改编。亚博网站下载

有关此消息来源的更多信息,请访问斯滕斯堡。

Citations

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    斯滕斯堡。(2021年1月20日)。解决对微标志和纳米光学的纳米印刷的挑战。Azom。于2021年7月5日从//www.washintong.com/article.aspx?articleId=18874检索。

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    斯滕斯堡。“解决微印纳米印刷的微观和纳米光学的挑战”。Azom。2021年7月5日。

  • 芝加哥

    斯滕斯堡。“解决微印纳米印刷的微观和纳米光学的挑战”。Azom。//www.washintong.com/article.aspx?articleId=18874。(2021年7月5日访问)。

  • 哈佛大学

    斯滕斯堡。2021。解决微标志和纳米光学的纳米印刷的挑战。Azom,2021年7月5日,//www.washintong.com/article.aspx?articleId=18874。

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