工程Lyso单晶体进行性能

LYSO:用于正电子发射断层扫描(PET)的Ce

Lyso：CE.具有一系列有趣的功能，包括适用于PMT的高密度，伽马排放，以及高质量的闪烁性能。它使用Czochralski方法生长。然而，它可以通过更快的衰减时间和较低的余辉来改善。

PET扫描仪环

NA	密度	1 /μ（511 kev）	λ排放(nm)	光屈服（pH / MEV）	能量分辨率	衰减时间
BGO.	7.1.	10.5毫米	480.	8200.	15％	300 ns.
luap：ce.	8．3	10.6毫米	365.	11000.	9％	60 + 600 ns
交响乐团:Ce	7.4	11.5毫米	420	30000	9％	40纳秒+余辉
LYSO: Ce (10% y)	7.1.	12.2毫米	420	32000	8％	40纳秒+余辉

Czochralski增长

Lyso Performance通过协同掺杂增强

其较高的光线输出和减少的余辉提高了其性能水平。它的ce.⁴⁺必须考虑稳定，并证明Xanes¹．

由于氧空位的稳定，捕获的效率较低。利用Ce可以改变补偿机制⁴⁺， 然而。

不受控制的共掺杂接触导致不稳定的晶体生长。这产生了螺旋形状，这意味着裂缝可能更容易发生，产量低。这可以通过高杂质或掺杂来解释表面张力。

标准共掺杂不适合工业生产，因为共掺杂含量低导致性能差。此外，高共掺杂量导致晶体生长不稳定。

水晶组成	脉冲高度(137.c - 62kev)		XRL rel。强度
	灯率（光子/ MEV）	能量分辨率
Lyso：CE.	28000年	8.9％	1
Lyso：CE，MG	33,000.	8.4%	1.12
Lyso：CE，CA	34000年	8.5％	1.19

CE稳定⁴⁺中心

显着抑制余辉

减少衰减时间

用于大规模工业生产的工程LYSO

通过修正的特性，可以实现组合物的渐进优化晶体生长．这是通过精确控制共掺杂剂'和活化剂掺杂剂'浓度的精确控制来实现的。

在生长过程中，可以使用氧化剂(如MOx)。这是氧气的来源，可以在熔化的浴槽中进行分解。与氧有关的缺陷的数量可以减少而不会产生不需要的污染。

对增长有几种后果。表面张力增加，晶体生长稳定（即使在大规模的直径上），消除了裂缝，并且晶体的质量改善。

大直径控制增长

工程莱斯的表现

作品	标准LYSO	工程LYSO
光率(光子/兆电子伏)	28000年	38 - 42000
衰减时间	43 - 45 ns	34 - 37纳秒
能量分辨率	8.9％	7 - 8％
余辉	高	〜GOS陶瓷

一致改进的时序分辨率

调节Lyso的时间分辨率*

2 Photonis XP20Y0 PMT 's @ -900 V, 100µCi^22.Na源

结论和观点

标准协同掺杂有局限性，可以改善。余辉，衰减时间和光率都可以得到改善，而CE⁴⁺可以稳定电荷补偿。不受控制的共掺杂导致晶体生长不稳定，共掺杂不能直接应用于工业生产。

Lyso可以为工业生产设计，因为没有任何污染对闪烁的影响。可以使用氧化剂方法，可以控制掺杂浓度。这为准备闪烁体提供了一系列机会。

全生产尺寸工程LYSO可用。衰变时间已减少到34 ns，优点超过40000 pH / meV（伽玛662 kev）。商业GOS陶瓷的余辉类似于工程Lyso的余辉，为CT或Pet系统的市场提供A.

参考文献

1. S. Blahuta，A.Bessière，B.Viana，P. Dorenbos和V. Oouspenski，IEEE核科学核科学的交易，3134-3141（2013）。亚博老虎机网登录
2. M. Spurrier，P.Szupryczynski，H.Rothfuss，K. Yang，A. A. Carey and C. L. Melcher，J.晶体生长310,2110-2114（2008）。

这些信息来源于圣戈班水晶公司提供的材料。亚博网站下载

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