电磁片度量法和它如何工作

赞助者半导体物理实验室2019年4月18日

测量等量参数(++++++++++++信息显示层厚度和折射索引

方程超线性非线性,有必要使用基于模型的数值方法解决方程问题方法期间,层结构按模型厚度和光函数分析

相对相位移通过数值回归过程测量并比照测量量

光学建模

当数值回归过程发生时松散光学模型结构需要解码基质常使用半无限素材估计,该素材厚并有已知光学特征

参数函数常用于剖析光谱吸收和扩散每一层视材料而定,基本经验公式可用或多维定义可用

发生参数函数时,例如在Cauchy法例中,散射因数参数值多而相容在本案中,A、B和C已知在发生回归时使用参数如果参数收集到回归过程尾端,折射索引可按波长函数测量

建模二电函数的另一个选项是Sellmeier模型,而Cauchy法则则实证公式模型以零线宽Lorentzian吸收峰值为基础离峰值测距₀振荡器强度B光学吸收波长测距

双曲形状可等同使用Cauchy模型获取者使用Sellmeier模型的好处是,它可以更简单地与为复杂二电函数精细化的替代散射公式合并高斯德鲁德或洛伦茨广波射程建模应用模型,并用单模型捕捉多Sellmeier峰值

SEA软件选择结构标签中散定类型

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敏感度范围测量光透明薄膜分密度计与数万分数分量计之差模拟结果显示清晰子敏感度,例如SiO₂s基底曲线大于600纳米波长

确定电膜厚度的高限值取决于最大波长范围,并取决于为所使用光谱椭圆计仪创建的分辨率使用玻璃基底时,薄膜涂层和基底间折射索引变异在Si0上下文会大减₂s采样结构

本身SiO₂或玻璃测量需要高敏感度仪表,可光学辨别相似二电使用Semlab旋转补偿电流计可测量SiO₂玻璃板厚度,即使厚度范围低至<50纳米

近段时间,这一应用方法对扁板显示业越来越相关,氧化层旨在起缓冲层作用,并必须可比地沿数米沉积²区域玻璃板

Si2Si测试75度角事件模拟,带带带带带带带带带带带带带带带带带带带带带带带带带带带带带带带带带带带带带

模拟SiO₂/Si测量75度角事件,带带或带不带1nmSiO₂胶片

75度角事件模拟Si2/Si测量法,厚度30微米与NIR快速检测光谱

模拟SiO₂/Si以75度角事件测量,厚度30微米与NIR快速检测光谱

光模型结果输出薄SiO2镜像结构

光模型结果输出薄西欧样本结构₂/玻璃杯

siO2层对s折式索引差玻璃或Si子串

siO折余索引差₂层对数玻璃或Si子串

测量并装配薄SiO频谱₂/玻璃样本65度角事件

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