主要方法
1.将盖玻片切割成与砷化镓器件面积相同的尺寸。
2.环氧玻璃盖滑到砷化镓设备的顶面(设备侧)。
*借助于环氧树脂接口夹减少样品
*使用尽可能少的环氧树脂
3.银环氧砷化镓设备,盖滑到抛光短柱上,允许2-4mm悬垂。
*使用尽可能少的环氧树脂
4.使用15μm开始抛光金刚石研磨膜。利用上图作为每个磨料尺寸的抛光停止指南。抛光压盘速度需为50-60 RPM,抛光方向应与样品界面同延。
5.进行最后的抛光在MultiTex上使用CS1胶体二氧化硅商标布敷10-15分钟。抛光台转速为50-60转/分,抛光方向垂直于样品界面,从砷化镓器件的底座开始,朝向玻璃盖滑块。
这些信息来源于Ted Pella, Inc.提供的材料。亚博网站下载
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