离子植入的金属成分

离子的植入是半导体生产中的重要过程。为了改变电导率，晶体结构和材料的其他特性，晶粒通常由具有“异物原子”的植入剂掺杂。亚博网站下载植入器系统的核心是梁路径，其中离子是以极高的速度生成，浓缩，加速并针对晶圆的。

积极的工艺气体，强大的电磁场，强大的机械力和高达1,400°C的温度可能会导致传统材料中的多个问题。亚博网站下载相反，Plansee的组件由钼，陶瓷，石墨或钨制成，具有极好的耐热性。

它们对腐蚀的耐药性，高热导率，绝对纯度和材料强度相结合，使这些组件脱颖而出，100或更多计划金属组件可以在每个梁路径中的工作中找到。这些成分确保离子免于污染物，有效产生，并沿着梁的路径向晶圆。

Plansee在半导体行业拥有30多年的经验，并且该公司在日本和美国的网站制造的组件符合OEM标准。

Plansee在优化形状和材料组成时考虑了设备制造的原始零件，从而确保清洁成本降低，使用寿命app亚博体育增加，安装更简单和拆除组件，较少的停机时间以及所需的维护工作减少。

Plansee认识到，过程的可再现质量至关重要，因此可以开发高级材料，并照顾制造工艺的每个元素，从金属粉末，直至完成的产品。亚博网站下载

以下产品可通过半导体行业的Plansee获得：

• 阴极（钼，钨和合金）
• 钱伯斯（钼，石墨，钨和合金）
• 弧缝（钼，石墨，钨和合金）
• 细丝（钨和钨合金）
• 持有人（钼，钨和合金）
• 分析仪组件（石墨）
• 绝缘子（陶瓷）
• 端站（石墨）
• 备件（钼，石墨，钨和合金，钢，陶瓷）

降低计划的许多叶子夫人

在有可能提高标准的潜力以及降低成本和时间承诺的情况下，Plansee可以为客户提供高级标准解决方案，并提供改进且便宜的备件可供客户使用。

MRS板符合OEM标准

改进的设计寿命更长

在整个离子植入过程（IIP）过程中，离子没有正确的电荷或质量，因此被MRS Vane过滤掉，只有离子通过质量分辨率插槽才能沿着梁路径沿晶粒路径沿。

当离子束碰撞时，MRS Vane会引起擦伤，但这是通过侧面的角度最小化的。但是，如果化学反应和磨损与IIP工艺有关，则越大，相应表面处的角度就越严重。在常规练习中，OEM标准部分中使用了92°角。

但是，Plansee确实要小心地通过构建离子光束以几乎正确的角度击中的区域来额外增强原始组件。相反，通常仅受热反应影响的边缘区域仅以浅角度产生。

Plansee在使用它们使用的材料方面高度辨别，以确保将正确的产品交付给客户。亚博网站下载由于其粗粒结构，传统石墨会在加工过程中产生高水平的颗粒形成。这种杂质会在具有小规模结构的电气部件中引起严重的问题。

为了避免此类问题，计划提供牢固而耐用的石墨，少于磨损，因此在过程中减少了颗粒的形成。yabo214

您所有需求的单一来源

为了确保客户享受最优质的产品，Plansee可以处理从原材料到最终产品的产品开发的所有阶段。亚博网站下载

此信息已从Plansee提供的材料中采购，审查和调整。亚博网站下载

有关此消息来源的更多信息，请访问计划。