使用光敏玻璃光刻

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光刻是一个用于精密加工过程设计或模式领域的薄膜和衬底。光刻允许“印刷”模式到衬底在微尺度维度,使这是一个宝贵的工具在电子和半导体行业。

光刻,顾名思义,使用光传输对称模式从光掩模感光化学(照片抵制)衬底。一系列的化学处理然后用来雕刻曝光模式,或使沉积新材料在材料的首选模式下照片抗拒。

有时,这个过程必须重复多次以产生所需的结果。例如,互补金属氧化物半导体晶片可能不得不忍受照相平版印刷的自行车/蚀刻高达50倍。

光刻过程中使精确控制最终产品的大小和形状,它是一个非常便宜的流程生成模式在整个表面。

光刻在玻璃

光刻是一种有效的技术,微观结构的大规模生产玻璃和石英基质。对光敏感的玻璃技术玻璃结晶而暴露在紫外线和随后的热处理后,使永久模式来开发一个衬底之前腐蚀处理。

然后结晶区域能够腐蚀高纵横比,导致非常好的结构,应用在半导体和微流体。继续处理感光玻璃(第二次曝光和回火过程)允许转换成玻璃陶瓷玻璃。阳极键合也可以执行。

这是一个晶片键合的过程,允许密封金属或玻璃硅不引入中间层,允许玻璃密封硅片在微流体和电子产品。

光敏玻璃是什么?

光敏玻璃(PSG)硅酸锂家族是一个透明的玻璃眼镜,可以捕获图像的一个面具的微小金属颗粒的形成玻璃,后暴露于紫外线等电磁辐射。yabo214这种变化是由于氧化还原过程,铈离子氧化更稳定状态放电电子,金属银和银离子减少利用电子铈解除。

如果玻璃暴露于紫外线的波长280 - 320纳米,产生一个潜像。玻璃继续在这个阶段是透明的,但潜在的形象将是可见的,当玻璃加热到温度范围550 - 560°C。热处理,水晶阶段硅酸锂金属银粒子形式。yabo214硅酸锂阶段蚀刻为了产生一个三维微观结构。

PSG是大大有前途的材料生产的组件几个复杂的微系统。高纵横比微观结构可以使用稍微修改了半导体设备和相对较低的生产成本和小规模生产是可能的。app亚博体育PSG具有较高的潜在的广泛应用,因为它可以应用在高温和腐蚀性环境。此外,它是透明的,展示了良好的电气和热绝缘,杨氏模量较高。

Photo-Structural微晶玻璃

2003年,photo-structural玻璃陶瓷为真正的MEMS开发和三维精密加工过程,也超过了2 d标准光刻的局限性。

眼镜独特性能使它完美的集成光学,机械电子,电气,和包装功能需要生产MEMS结构。如果应用热量和紫外线,PSG转化为一种硅酸盐材料,是30倍etchable本机玻璃材料。

这个加速腐蚀能力导致相当尖锐和陡墙比其他标准的湿蚀刻技术角度。通过改变炉温度剖面,PSG也可以“ceramized”为可定制开发特定的相变机械、光吸收、电子特性。

发展中光刻

光刻是一种特殊的电子和光电设备的精密加工过程的决议50 nm或更少,如微生物内存设备,微型传感器,微电路,芯片实验室/ micro-total分析系统(µ-TAS),甚至压电设备和微型太阳能电池面板能量收获。

专门开发的潜在采取特定光敏玻璃和主题到光刻开发成千上万的精确的微尺度设备是明显的。流程可以执行快速和便宜(相对),半导体行业成为一个有吸引力的方法。

光刻不断发展。一个新的质子光刻机制允许缩微成像感光etchable玻璃结晶的基础上玻璃与兆电子伏质子辐照后和热处理。兆电子伏质子导致大大减少最小特征尺寸,相比,紫外线照射,蚀刻的阈剂量极低(4000质子µm⁻²),提供了潜在的生产复杂的微观结构通过直接写使用极短的曝光。

玻璃的结构深度决定通过质子在玻璃的范围,它允许结构与不同深度捏造。这种技术可以在高纵横比的制造有价值的微观结构,如光学设备和流体网络。

技术玻璃Mo-Sci

Mo-Sci可以提供各种各样的光敏眼镜这对光刻是完美的。

Mo-Sci一直扮演一个重要角色在光敏玻璃市场自1985年以来,有一个特权创新的记录。公司的开发实验室中首屈一指的专家定制的玻璃配方的生产应用程序。

Mo-Sci产品在所有主要的制造业领域,主要活跃在分析微流体和电子行业。

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