半导体:可靠Atline,在线和内联为您的流程需要的解决方案

图1所示。

集成电路是现代电子产品的基本元素。在这个数字时代,更小,更快和更强大的处理器consant对于许多商品和服务的需求。半导体行业主要负责开发当代社会的各个方面,因为许多服务是数字化和相互关联(物联网、大数据和智能电网)。

在半导体制造设备清洁是至关重要的,考虑到工作表面(纳米)的规模。顶级制造商必须遵守严格的生产控制程序,如各种形式的污染物可能导致缺陷。

一个加工厂可以使用每天多达1500万升的超纯水。甚至细菌必须消除,因为他们有微量元素,可以改变电特性的硅晶片用于制造晶体管集成电路。

处理原材料(单晶硅)到一个集成电路包括不同阶段完成。每个阶段需要大量的注意保证成品的质量很高。流程优化通过水质参数的在线监测,金属含量镀浴和酸腐蚀浴不仅节省时间,而且大大降低了生产成本。瑞士万通过程分析提供了在线过程分析任何半导体工厂中必不可少的运行过程严格规范,加强不同生产阶段和减少浪费。

	FEOL 前端的线				BEOL 的线
那么星际2 /清洁 晶圆制备超纯水质量 TMAH在开发人员 混合酸浸浴分析(美) 组成腐蚀更简洁的解决方案 过氧化氢在CMP浆料 硫酸和过氧化氢的混合物在光刻胶剥离				过氧化氢在CMP浆料 TMAH在开发人员 蚀刻浴(混合酸)组成 酸铜浴为波纹的过程测量 镀浴中重金属的浓度 有机添加剂浓度电镀浴 化学镀铜/镍和次磷酸盐(H2阿宝2- - - - - -]
SUBFAB
•超纯水质量化学分布和稀释 •H2O2、pH值、温度和电导率浆生产、混合和分配 •项目清洁化学交付(酸) •氟化氢化学稀释系统 •铵化学稀释系统 在H•氯(Cl -)2所以4回收系统

概述各种各样的应用程序出售的瑞士万通过程分析在不同区域内半导体工厂。

超纯水规范

最消耗化学制造集成电路实际上是超纯水。几家工厂生产超纯水现场需要在几个方面,从清洗后蚀刻步骤集中subfab中的化学物质的稀释。离子交换剂上游的工作效率可以由这种超纯水的痕量分析。杂质会导致不均匀腐蚀或不均匀的镀层,可以预防性维修厂家多次超过成本的离子交换剂。

废水从电路生产

符合监管机构是必要的,和越来越严格的指导方针每年发展是非常重要的检查废水和确保处理设施有效地工作。几个过程分析可从瑞士万通过程分析,可以测量从单个到多个组件在废物流,与customize-built样品预处理设置和避难所供更具挑战性的核电站周围区域。

• 稀金属废物流分析
• 集中铜废料分析
• 废水监测几个组件

瑞士万通过程分析提供了不同的分析方法在许多不同的分析仪配置等任何要求的离子色谱法、光度法、近红外光谱法、滴定法、离子选择性测量。瑞士万通的在线过程分析开发和定制的样品预处理系统由瑞士万通在荷兰和维护全球的本地服务工程师。

应用程序

生产控制电镀浴

广泛的方法用于识别有机添加剂在电镀浴循环脉冲伏安溶出法分析(cpv)和循环伏安溶出分析(CVS)。对各种技术涂料,特别是在印刷电路板的制造和半导体组件,该方法生产控制的一个重要组成部分。在线分析与瑞士万通的ADI 2045 va过程分析仪删除需要循序渐进,重复实验室质量控制,确保连续镀浴和无干扰的功能。

• 即使在盐水条件下精确测量
• 精确测量电镀、调整脚和抑制
• 浓度毫升每L浴液添加剂
• 适用于铅浴、碱性锌浴、锡浴,酸性铜浴室等。

过程离子色谱仪

快速、原位、无损分析

使用在线近红外光谱(NIRS),浴组成、化学物质的纯度和其他进程可以很容易地跟踪。实时数据可以得到不含化学物的过程分析与检测技术,节省时间和金钱与其他分析方法相比。多路复用器选择启用监视许多浴室同样的分析仪,从清澈液体到不透明的泥浆。近红外光谱也可以用来分析表面晶片表面。

• 混酸浴
• TMAH在水中
• 保持/原版星际2
• HF-Dip
• HotPhos (H₃阿宝₄在水里)

ADI 2045 va过程分析仪

多组分测定在单个运行

离子色谱法(IC)允许许多主要和次要成分的测定电镀浴和微量杂质的无机和有机离子或极性物质的精度和可靠性。一个关键优势是物质化学性质类似的并行可以确定在一个与离子色谱分析。分析物的浓度可能范围从ng / L %的限制。干扰基体效应是可以预防通过集成与瑞士万通的样品交付不同的内联样品制备技术。

• 杂质在电镀浴
• 浓酸蚀刻的解决方案
• 硝酸镍浴中
• 离子分析乳剂和soap-containing清洗解决方案
• 超纯水的痕量分析

NIRS XDS过程分析仪

近红外线分析仪专业

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