半导体分析 - 纳米级分辨率下有机污染物的红外分析

基于有机的纳米 - 体积是在微电子制造过程中常见的严重缺陷，包括数据存储，半导体和LED。这些有机污染物对于制造商来说是一个严重的赤字问题，因为它们会导致产量问题和过程延迟，甚至可以导致废产品。

污染物来自不同的来源，包括晶圆转移和处理，空气传播的分子污染，清洁技术，化学处理以及与过程的人类相互作用的数量。为检测和预防缺陷做出了重大努力。但是，仍然有一个重要的类，包括有机纳米核抑制剂，由于分辨率不足甚至在测量过程中对样品的损害不足，因此很难使用现有仪器实现确切的识别。

AFM-IR是一种可以允许精确化学识别污染物并通过纳米级分辨率提供多个性质分析的技术。

以下是AFM-IR技术的关键功能：

• AFM-IR独特，明确地识别晶片，媒体和滑块底物上的有机纳米体积
• 同时纳米级化学和财产映射信息
• 纳米级红外光谱与FTIR库直接相关

裸硅晶片的有机纳米污染物

为了显示纳米级化学表征能力Nanoir2-FS™系统，用通常在半导体制造环境中发现的已知材料制备污染的硅晶片，然后检查。亚博网站下载对于每个样品，使用攻击AFM-IR成像来追踪污染物，然后进行AFM-IR测量。

AFM高度图像（图1A）显示了晶状体上（人皮组织）污染物的厚度变化（20至100 nm）。然后将AFM-IR光谱收集到具有可变样品厚度的位点（图1B）。

如预期的那样，观察到的IR强度随样品厚度而变化。然而，总体信号噪声比足以准确检测材料，即使在20 nm厚度下，也反映了检测薄样品的非凡灵敏度。

图1。（a）硅晶片上人类皮肤残留物的AFM高度图像。（b）相应的AFM-IR光谱；指示酰胺I和II频段。

Nanoir2-FS的新快谱功能可以在整个红外调整范围内更快地获取光谱，并允许将光谱采集时间减少10倍10。如图2所示，这一成就仍然可以准确地集合FTIR光谱。

将从样品获得的AFM-IR光谱与一个普通的FTIR数据库（知识群，Bio-Rad Inc.）进行了比较。〜30 nm高的污染残留物被阳性地检测为聚对苯二甲酸酯（PET），这是一种通常用于聚酯织物的聚合物。

图2。（a）带有有机残留物的晶圆的AFM高度图像。（b）（红色）和（蓝色）污染物的快速谱数据。（c）表面污染物为PET的阳性FTIR数据库鉴定。

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该信息已从布鲁克·纳米（Bruker Nano）表面提供的材料中采购，审查和改编。亚博网站下载有关此消息来源的更多信息，请访问布鲁克纳米表面。