高功率双阴极磁控系统的离子密度增加

优化的丝处理（OWIT）项目集中于制定和确认新的沉积方法，可实现均匀的涂层与所要达到在纤维上和电线优异的物理性能。常规溅射技术，它采用点源或平面靶，具有与所述不可行性到大量的溅射物的递送到衬底严重限制。

Hiden建议在高功率脉冲（HIPIMS）模式下操作的磁控溅射系统，其保留了相当数量的金属离子。这些离子在腔室壁上不会丢失，但是可以重复用于沉积过程，即使在相对低的功率输入处也能保持高水平的自溅射。新型涂料具有独特的化学品，物理和电气性能，可以获得高老化质量，机械强度非常好，机械和化学寿命长。

验证和方法与沉积技术评估

以下关键目标被视为验证和评估方法和沉积技术：

• 使用通过等离子体诊断工具使用的实验数据使用粒子内（PIC）和蒙特卡罗技术的等离子体建模。进行广泛的等离子体建模和计算，以便建立散装等离子体的最佳特性（密度，几何，场分布等）。
• 新的技术水平在电线的智能处理领域达到。独创性和该项目的主要困难涉及在具有适度大长度的小的圆柱形体积浓缩的高密度等离子体。HIDEN旨在同时显影围绕导线适当等离子体屏蔽以存款和植入涂层的组成物质。这种新的等离子配置指示高的沉积速率，并因此高处理速度。在未来，特别重点将放在实现完美圆筒形等离子体几何形状，以便确保在整个焊丝表面均匀处理。
• 等离子体诊断，以通过Hiden的分析ESPion高级朗缪尔探针的方式已经完成。期间HIPIMS等离子体产生的活性相的放电已经检查了不同的功率模式时将探针定位在4和基本上平衡磁控管之间的放电量的中间。当循环由一个以上的脉冲的，触发波形被转换成使用计数装置的单脉冲。触发开始5微秒之前的放电电压的第一边缘电平已在各个周期的开始而完成的。在这种类型的配置中，探头可以提供主等离子体参数，如电子温度，电子和离子密度，等离子体和浮动电位125毫微秒分辨率。

该实验系统用朗缪尔探针，四个基本上平衡平面磁控管（2” 的Ti靶），和毛细血管的用于引入从大气压导线系统

项目摘要：

O.V.Vozniy
DéPartementS亚博老虎机网登录cience et Analyze desMatériXux（山姆），
中心德RECHERCHE公共 - 加布里埃尔·李普曼，
41，芸香杜布瑞尔，
L-4422 Belvaux
卢森堡

纸张参考：

O. Z. Vozniy，D. Duday，A. Lejars，T.维尔茨（2011）“在高功率双阴极磁控管系统离子密度增加”真空86（1），78-81

Hiden的产品：

ESPion高级朗缪尔探针

按照上Hiden的分析的网站链接到产品目录了解更多信息

http://www.hidenanalytical.com/products/for-thin-films-plasma-and-surface-engineering/espion/

此信息已采购，审查和调整了Hiden分析提供的材料。亚博网站下载

有关此来源的更多信息，请访问Hiden的分析。