今日制作过程涉及不同类型的图像分析,以满足多项工业应用的要求。各种显微镜制造厂设计软件作为所有行业之J,为用户提供各种工具以完成具体需求然而,多方法执行成像或分析过程可能导致运算符不一致性反之,基于求解软件设计面向具体过程和应用,步行用户逐步工作流直截了当方法使运算符之间的变异性降低,以获取更多可复制和一致性结果文章分享工业图像分析应用专用工作流实例
图像采集测量软件,如Evidude OLYMPUS流TMPRECiVTM软件为各种材料分析应用提供易用性和指导工作流设计这些应用专用工作流是为了提高工业领域图像分析的效率和一致性
粒度截取法
OLYMPUS流和PRECIV软件提供的具体应用工作流实例上头粒子拦截法图1引导运算符逐步执行粒子分析第一步选择图像分析下一步是输入图象数据或兴趣样本数据后继选择变量,例如拦截模式和边界类型(例如亮度、暗度或过渡性)。粒度宽度交互调整以实时识别显示器上的粒子
图1粒子拦截测量使用ASTME112图像测量使用OLYMPUS流化软件中的粒子截取法PRECiV软件提供相似工作流,单求解中可用粒拦截和粒子平面法
减少噪声滤波法滤波因子产生噪声,如图象引人兴趣抓取生成粒度计算并添加到工作簿数据或直接添加到报表中有可能保存并回溯过程所选择的所有变量,使不同的运算符能用相同的变量进行相似分析软件还设计标准,如ISO和ASTM帮助用户实现合规要求
如果运算符没有粒拦截解法软件内需要人工分解粒子开始时,他们会在图像上创建参考线,然后决定哪些线是图像边界下一步,他们需要人工计数边界上沿参考线拦截最后一步是计算粒子大小并按引用线距离拦截数人工执行所有这些步骤耗时并增加运算符变异性
材料分析解决方案
Evide创建了各种其他材料分析解决方案,以便利对具体应用进行引导分析解决方案都共享相似工作流:用户选择图像分析,输入想要的样本信息,完成具体解决方案的其他步骤(通常包括阈值)并创建报告或工作簿结果
相位分析:帮助对全图像或不同区域选择执行相位分析,包括多边形、矩形、圆形和三角形用户遍历所有步骤,结果在多图像中累积
粒子分布粒度分布直方图和表由多图像或图像序列生成可选择任何类型测量参数,如面积或直径图片表示分布很容易制作
迭代宽度度量从上视图图片涂层使用隐式法,即对电板应用研磨场和用样本几何测量电板厚度
浮度ROIs和阈值测量孔片并自动判定图像孔密度可选择特定孔数范围实现所需可复制性
谷粒平面:使用平面法判定粒度数G开发面向钢师量化并控粒度
图表比较:可应用ASTM粒子大小评价、凸铁形状类评价和非金属兼容性评分也可以分析钢材中的碳化物结构
最差域开发面向钢师计算并控制非金属融入物的大小和形状,如硅化物、硫化物、铝化物和二氧化物钢非金属内含可自动评价结果并符合国际标准
石铁设计用于铸模制造商测量并控制石墨节点性以完善铸模产品的机械性能可按石墨形状、大小和分布计算节点性
抛出电源:可用测量微粒或洞中铜覆布厚分布引导印刷电路板质量检验员通过识别浮桶深度所需的所有测量
层宽度层或多层交叉样本可测量(图2)。用于各种应用,包括多层厚度评价和涂层厚度评价
自动测量:测量可用实景图像生成,模式识别基础为边缘检测多测量可单图像执行还可以重新定位已处理样本
图2绑定材料和表面涂层测量使用PRECiV软件图层宽度解析法
除上述材料分析解决方案外,Evice可开发定制解决方案满足用户需求,如公司专用测量例程或标准
布局配置宏脚本编程是另外两个选项
宏使运算符能记录软件中单步或减序数组数步运算符输入数据,相关报错机可因宏脚本化而减少
软件布局具体配置满足用户需求或步骤时,不必要选项消除最小选择错误函数或误差概率
布局配置和宏脚本设计对缺少预定义解决方案满足自身具体需求用户来说是宝贵的选项解决方案消除不必要的选项和步骤并集中应用满足用户的具体需求
结论
Evice基础图像采集分析软件选项为行业提供各种工具供各种应用材料分析解决方案提供引导工作流程,以减少不同运算符分析的变异性并通过半自动化计算提高效率OLYMPUS流和PRECiV软件可添加这些解决方案,以个性化工作流处理检验和研究需求布局配置、宏脚本编程和定制解决方案为定制软件提供了更多方法
深入了解Evidude基于解决方案的软件选项 工业图像分析访问EvidentScientific.com.
亚博网站下载这些信息取自EvidentCorporation-Industrial显微镜
详情请访问Evicent公司-工业显微镜