氩或氪稀释CH2F2等离子体氢氟碳离子密度:电荷交换碰撞解离电离生成CH2F+和CHF2+

稀有气体（M）稀释CH的分析₂F₂利用四极质谱(QMS)研究了等离子体中CHF的形成₂⁺稀释氪(Kr)和CH的离子₂F⁺稀释氩(Ar)的离子。CHF的离子密度₂⁺和CH₂F⁺在CH₂F₂等离子体。在氩稀释等离子体中，CH占主导地位₂F⁺离子是由于C-F的表观能与Ar之间的解离电离⁺（图1）。

图1所示。CH的解离电离截面₂F₂分子。

对于氪稀释的等离子体，CHF占主导地位，导致了碳氢的出现能₂⁺离子，具有类似的电荷交换通道之间的碰撞CH₂F₂和kr +。根据分析结果，将KR或AR添加到CH₂F₂等离子体提供了一些控制CHF分数密度的措施₂⁺和CH₂F⁺离子(图2)。

图2。个人CH₂F⁺和瑞士法郎₂⁺总CH的离子分数_xF_y⁺Kr-和ar稀释的CH的离子密度₂F₂血浆。

解离电离途径

水红素核糖具有H原子，而不是氟镍气体中的F原子。涉及C-F和C-H之间键的感兴趣的反应对于反应物种的密度控制至关重要。C-F键的解离导致F原子，其是用于硅（Si）的主要蚀刻剂，而C-H键的解离产生H原子，其允许待沉积在基板表面上的聚合物。为了确保准确的加工，沉积和蚀刻的物种平衡与气相中的解离反应密切相关。

实验采用了双频电容耦合等离子体(CCP)蚀刻反应器，并进行了实验四极质谱计安装在腔室的墙上。与CH的Kr或Ar气体混合物₂F₂气体被引入反应室，电极使用甚高频(VHF)电源来保存等离子体。

质谱测量正离子的测量

从正离子质谱法获得的测量结果表明CHF₂⁺和CH₂F⁺是主要的正离子。CHF产生的电离途径涉及两个通道₂⁺和CH₂F⁺离子。CH.₂F⁺通过碳氢键或碳氟键的离解。通过解离机制，同时生成F和H原子的中性电荷计数器碎片。当CH的离子密度较大时，应考虑电子间的碰撞₂F⁺用Ar气体稀释的等离子体。离子与CH的稀有气体和分子分子之间的电荷交换碰撞₂F₂发生的原因是表观能量的位置与Kr (14 eV)和Ar (16 eV)接近。

通过质谱测量中使用的气相诊断法，正在进行持续的研究以阐明等离子体中的解离反应。

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