可变温度低压反射UV-Vis-NIR光谱研究空气敏感金属有机框架

金属有机框架多孔协调聚合物,装有无机节点和晶状安排中的有机链路亚博网站下载这些材料通常包括可带入UV-Vis-NIR辐射的转机离子

光谱线使人们更好地了解吸收离子的几何特征,并深入了解附着这些离子的原子的物理和化学特性。

鉴于这两个特征控制离子固有反作用和反应过程这些属性变化,电子光谱分析证明是区别MOF和反作用式金属节点的合适工具

电子谱镜

MOF电子光谱学依赖研究事件光散入微粒晶状悬浮层的散射反射时哈瑞克angtisTM祈祷配方适合标准测量空气稳定MOF粉末,不适合跟踪MOF中反应式金属点行为

由于金属离子不稳定性,样本被认为可作反作用分析的优选方法往往对空气敏感。此外,分析样本行为,重要的是控制原位样本周围的压力和温度,样本还须用子串进行反活动研究

文章展示Harrick低温响应分机^TM增强光谱描述异常Ni²⁺MOF内部的物种并现场监控它在不同环境环境环境环境中与分子的反作用

供分析用,新MEF编译NIZN₃OO₂C-C₆H级₄高管₂)₃并称Ni-MOF-5可视之为Ni²⁺模拟MOF-5材料 Nizn₃O替换每个八进制zn₄O集群

使用扩散反射UV-Vis光谱学、四面几何学和Ni周围全氧环境²⁺差分化材料必须在惰性大气中保存

并检微小分子反作用²⁺几何中可能含有2个额外分子 协调领域

与微小分子发生反应时对材料的阻抗可加深理解Ni电子特性和几何反射²⁺在这个非同寻常原子环境

Harrick低温反应室从子生成惰性空气以确定Ni-MOF-5扩散反射支持温度提高和压力减慢下测量跟踪N、N二亚模或DMF分子从Ni相继损耗²⁺网站

实验框架

UV-Vis-NIR光谱仪商业上可用并用它双波段模式和Harrick执行所有测量angtisTM祈祷图1和低温响应机安装SiO₂窗口图2

图1angtis反射存取

图2angtis祈祷低温机

所有数据均以%反射并改用Kubelka-Munk函数下位BASO₄装进反应室并置入作祷旦^TM以确定2000至200nm之间的基线频谱环境压力和温度收集的信息后从所有后续实验迹中减值

下惰性空气a₂装满手套箱 Ni-MOF5装入反应室样本先前浸入DMF水槽以获取Ni-MOF-5DM水槽

反应室连接angtisTM祈祷并连接到港口流水为了控制样本温度,反应室通过K型热电偶连接到Harrick自动温度控制TM

环境条件下,取出样本频谱后再取取出通过阀门引入动态真空反转这个阀门连接到样本控件

温度以10摄氏度递增至200摄氏度,光谱采集于温度稳定后样本封套达200摄氏度后,光谱每3分钟收集一次,直到所有数据停止演化

结果与讨论

图3显示KubelkaMunk单元生成的光谱集原创迹取自动态真空室温度用黄色图解接发数据从黄对橙向红并最后以蓝结束

图3DMFNIMOF5反射光谱原位采集,同时在减压下加热样本初始微量以黄显示并进取橙色、红色和蓝端

数据进化显示Ni²⁺网站DMF-addro前一频谱匹配六五坐标Ni²⁺中尾蓝迹与四合Ni预测吸收剖面¹⁺.

鉴于DMF可能坚持Ni空缺协调网站¹⁺i-MOF-5辅助原子²⁺可能出自嵌入式DMF分子紧接贝氏点接近700纳米表示Ni²⁺经历从6到5整齐转换为4坐标几何,因为随后在每个金属场点损失2DMF分子

结论

上日期使人们更好地了解MOF反应式金属场点转换Harrick低温响应分机帮助获取Ni原位DMF反射光谱²⁺后从协调领域丢失dMF分子

尾迹抓取Ni²⁺异常虚听环境条件 无法研究sans惰性哈里克从属帮助进行了一项研究,研究显示MOFs适合反作用研究以及协调非机样化学,这些样本太复杂无法获取为分子

关于Harrick科学产品公司

自1969年开学哈瑞克科学光谱学通过创新向传输、内部反射、外部反射、扩散反射和发射光谱学董事长兼创始人Dr.N.J.哈瑞克先导内部反射光谱学 并成为这一技术的主要开发者

哈瑞克科学提供大量标准定制IR和UV-VIS分光计配件其中许多附属物原创领域前辈,现代版本被视为行业标准哈瑞克科学继续引进创新新产品除这些最先进配件哈瑞克科学提供全线光学元素,包括窗口、ATR板块、棱柱和半球

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