高对比度FESEM低压图像使用Gemini技术

DSM982首次现场发射扫描电子显微镜使用Gemini技术于1993年引进系统分辨率为3至4纳米时为1kv,为低电压SEM(LVSEM)设定新标准,并大幅度扩展现场发射扫描电子显微镜应用领域至低登陆能其主要好处包括提高SE产量、减少样本损耗和高分辨率地表敏感度,这是由于小波束和小波量

Gemini光学列整合波束增强器Gemini目标透镜.后者为复合磁电目标镜像图1显示使用透镜时,球形和色相异常率随波束能量下降而大为下降

图1Gemini光学列剖面新高清晰度火药模式、波束助推器、Inlens检测器、新镜头设计(由磁电镜组成复合镜片)。

双子柱子特征新光学设计 精密透镜设计 和枪模式Gemini目标透镜通过优化几何和磁静电场分布得到进一步改进

现时提供1.2nm500V并消除可用性问题,如采样中附加字段独有枪式设计也是为了减少主波束的能量传播色差效果进一步减低,便于小探针大小并保持低至1kV的适当分辨率

电子光学系统性能提高,同时样本现场效果尽可能减少emini目标镜片提供高级成像条件,即使是复杂样本

Gemini光束助推技术不仅能保证小探针大小,而且还能促进高信号对噪比下向低加速电压系统对外部误差场敏感度通过保持高电压波全列直到最后减速

Gemini技术帮助低压高分辨率

为了防止波束损耗并平衡波流和SE取荷中立性,需要低电压高分辨率亚博网站下载使用下列应用实例(图2A和B),有可能获取光束敏感度特殊成像条件、FEO(OH)等充电材料或Al等充电样本₂O级₃.

图2a) Nanitows空间FEO(OH)晶体样本:拜拜LManiguet,INPGGREOBLLEF

图2a平面₂O级₃领域化

图2Etched硅纳米结构以50V波束电压成像,无样本偏差样本:表示ACharai法兰西Aix马赛大学

图2光谱Silica摄取500V

检测技术-检测高分辨率、敏锐度和效率

通过双子检测高效信号检测通过并行检测反射电子和二级电子实现因兰斯探测器聚集在光轴上,减少调整的必要性,从而减少时间到图像

优化检测效率和高分辨率属性提供高品质SEM图像Gemini目标透镜显示新设计,提高单片SE检测功能,因为它像图像透镜作用,还提高样本生成BSE和SE电子检测效果内带SE信号比传统SEM设计高20倍允许低电压快速扫描速度图像高速采样分析

图2C和D显示使用不同电压的灵活性500V或甚至50V的电压可用于获取信号对噪比良好的图像热利特图像通道小至几纳米(图2D)。

在本案中,良好的检测效率和高分辨率整合很重要,可以在不偏向样本持有者的情况下实现。此外,Gemini透镜能滤波剖面使用提高电压对比度半导体结构成像用图

检测技术-EsB检测器对低压BSE进行能源滤波检测

inlens EsB(能源选择反向散射器)检测器是列内光轴上第二检测器带能量过滤网格,该检测器允许BSE和SE电子分离可使用能源滤波提高光谱变异导致低损料BSE对比寻找检测到电子光谱数据的最新趋势正日益得到使用。

图3yabo214催化器:银纳米粒子嵌入Zeolite、Se(左侧)EsB(右侧)1.5kV样本:拜G温贝格 德国马克斯普朗克社会Fritz-Haber学院

图3b)BaFe₁₂O级_19号yabo214纳米粒子显示1.1nm(002)latice间距样本:h礼罗曼努斯TUIlmenau

图3离电池阴极素材BSE构件对比,敏感绑定物无损样本表示T.亚博网站下载Bernthaler材料研究所Aalen,德国

图3金碳采样BSE信道对比

检测技术-STEM和BSE

除带内检测器外,还提供增强半导体检测器扫描传输电子显微镜和BSE成像都提供半导体多段检测器可回溯检测器常见方面是极佳信号对噪比和相对低电压角敏感度

可分片分解各种组合并并行读出四大信号BSE检测器标准模式包括带BSE电子的地形或构件成像STEM检测器允许常用面向黑域(ODF)、brightfield(BF)和高角反射黑域(HAADF)模式

yabo214Biorhexerites磁纳米粒子,多发性能imiSEM检测器传输确定后,可获取latice解析法(图3B)。半导体多段反分片检测器还有可能获取通道和构件BSE对比

关于锂电池分析,用户可定位粘合物邻接锂富钴微结构明显显示锂电池变质(图3C)。高压易反射成像,该检测器嵌入孔径可低吸附使用,压力变异

可变压力技术

高级可变压技术提高信号检测效率并允许高分辨率高压操作允许最大弹性使用高真空检测器,如VPSE、SE、InlensEsB、InlensSE和BSD检测器

可变压力概述

可变压力扫描电子显微镜中BSE电子无弹性散射和气原子波束生成正离子和自由电子充量物种被采样表面充量区域吸引并排出

由样本生成的SE和BSE电子进一步增强气体离子化程序VPSE检测器和压力限制孔径应用潜力新的VP技术不仅会减少高气压线程效果,还允许使用Inlens检测器检测SE信号

压力缩放孔径

新开发VP技术的主要组件是可反压限制孔径,如图5所示安装时,该孔径允许采样室多达500帕压力,而客观透镜中的压力则保留在高真空中光束增强器可用于VP操作,以便高分辨率低波能实现表1显示VP系统极具弹性图4显示新VPSE比传统VPSE技术增强

表1真空模式新VP概念

模式化	限制压力孔径	推送器	室压
高空HV	无	开	<10-2
可变压力VP	无	关闭	5-30
南欧VP	800微米 350m	开 开	5-40 5-150
XVP	800微米 350m	关闭 关闭	5-150 150-500

图4压力限制孔径集成五分BSD检测器

VP样本弹性

VPSE检测器的好处插图聚合物样本中清晰可见极佳信号噪声和良好分辨率(图5A)。yabo214外加银纳米粒子80Pa和10kV低放大度图像(图5B)。

图5a) 卷积聚合微结构成像为150Pa和3kVVVPSE检测器样本:受Dr.H.G.Braun,Leibniz聚合研究德累斯登

图5低放大度Ag纳米粒子覆盖自然纤维,用Inlens SE(左侧)和EsB(右侧)检测器制作80Pa和10kV样本:SBUK和DrF.赛门 列布尼兹聚合研究所德累斯登

图5图像显示滤纸中等放大度,摄氏80度

图5a/Pd薄膜高放大度沉入玻璃上,摄于40Pe5kVInlensSE

EsB和InlensSE检测器都用于实现材料对比度和表面地形学,这两种对比度明显隔离

结论

系统基础二十多年的专门知识Gemini技术提供易用性、优解析高效检测Gemini小说透镜设计,解析限值再次推低电压,从而产生宽电压范围的适当解析

可反射压力孔径和可反射VP模式检测器使电子显微镜师实现极优弹性Gemini镜像设计低高压复杂成像,从而解决现实世界样本需求

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